導航:首頁 > 化學知識 > 化學實驗制備三氯氫硅的裝置有哪些

化學實驗制備三氯氫硅的裝置有哪些

發布時間:2022-07-15 14:31:14

❶ 三氯氫硅與氫氣反應實驗。

SiHCl3屬於分子晶體,熔沸點低,SiHCl3液態沒有水,不可能與水反應,SiHCl3液態放在圓底燒瓶加熱可得SiHCl3的蒸汽,氫氣與SiHCl3蒸汽混合之前先通入盛有濃H2SO4的洗氣瓶中,尾氣中有HCl,尾氣要有防倒吸裝置,為防止水蒸氣進入反應裝置中,在尾氣處理裝置前要有一個濃H2SO4的洗氣瓶防止水蒸氣進入。

❷ 三氯氫硅

三氯氫硅SiHCl3
1.別名•英文名
硅氯仿、硅仿、三氯硅烷;Trichlorosilane、Silicochloroform.
2.用途
單晶硅原料、外延成長、硅液、硅油、化學氣相淀積、硅酮化合物製造、電子氣。
3.製法
(1)在高溫下Si和HCl反應。
(2)用氫還原四氯化硅(採用含鋁化合物的催化劑)。
4.理化性質
分子量: 135.43
熔點(101.325kPa):-134℃;沸點(101.325kPa):31.8℃;液體密度(0℃):1350kg/m3;相對密度(氣體,空氣=1): 4.7;蒸氣壓(-16.4℃):13.3kPa;(14.5℃):53.3kPa;燃點:-27.8℃;自燃點:104.4℃;閃點:-14℃;爆炸極限:6.9~70%;毒性級別:3;易燃性級別:4;易爆性級別:2
三氯硅烷在常溫常壓下為具有刺激性惡臭易流動易揮發的無色透明液體。在空氣中極易燃燒,在-18℃以下也有著火的危險,遇明火則強烈燃燒,燃燒時發出紅色火焰和白色煙,生成SiO2、HCl和Cl2:
SiHCl3+O2→SiO2+HCl+Cl2;三氯硅烷的蒸氣能與空氣形成濃度范圍很寬的爆炸性混合氣,受熱時引起猛烈的爆炸。它的熱穩定性比二氯硅烷好,在900℃時分解產生氯化物有毒煙霧(HCl),還生成Cl2和Si。
遇潮氣時發煙,與水激烈反應:2SiHCl3+3H2O—→ (HSiO)2O+6HCl;
在鹼液中分解放出氫氣:SiHCl3+3NaOH+H2O—→Si (OH)4+3NaCl+H2;
與氧化性物質接觸時產生爆炸性反應。與乙炔、烴等碳氫化合物反應產生有機氯硅烷:
SiHCl3+CH≡CH一→CH2CHSiCl3 、SiHCl3+CH2=CH2—→CH3CH2SiCl3
在氫化鋁鋰、氫化硼鋰存在條件下,SiHCl3可被還原為硅烷。容器中的液態SiHCl3當容器受到強烈撞擊時會著火。可溶解於苯、醚等。無水狀態下三氯硅烷對鐵和不銹鋼不腐蝕,但是在有水分存在時腐蝕大部分金屬。
5.毒性
小鼠-吸入LC50:1.5~2mg/L
最高容許濃度:1mg/m3
三氯硅烷的蒸氣和液體都能對眼睛和皮膚引起灼傷,吸入後刺激呼吸道粘膜引起各種症狀(參見四氯化硅)。
6.安全防護
液體用玻璃瓶或金屬桶盛裝,容器要存放在室外陰涼乾燥通風良好之處或在易燃液體專用庫內,要與氧化劑、鹼類、酸類隔開,遠離火種、熱源,避光,庫溫不宜超過25℃。可用氨水探漏。
火災時可用二氧化碳、干石粉、干砂,禁止用水及泡沫。廢氣可用水或鹼液吸收。
三氯硅烷有水分時腐蝕性極強。可用鐵、鎳、銅鎳合金、鎳鋼、低合金鋼,不能用鋁、鋁合金。可以用聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯聚合體、氟橡膠、聚氯乙烯、聚乙烯、玻璃等。

❸ 超純三氯氫硅制備!板式塔還是填料塔

填料塔直徑現在也可以做到很大了,6-7米的也有了,填料塔防堵性能不是很好,但用在多晶硅應當是很好用的;板式塔相對來說,同樣的理論板數塔高要比填料塔高;我還是喜歡用填料塔,效果是好,一米填料相當於7"10塊板。

❹ 工業上用「三氯氫硅還原法」制備純硅的工業流程如圖: (1)石英砂的主要成分是 (填化學式).

(1) (2分)

❺ 求文獻:三氯氫硅制備工藝介紹,蔣廣生 化學工業與工程技術

請下載附件,還望採納

❻ 工業上用「三氯氫硅還原法」,提純粗硅的工藝流程如圖所示: (1)三氯氫硅的制備原理:Si(s)+3HCl(g

(1)升高溫度或增大氫氣與SiHCl 3 的物質的量之比或增大氫氣濃度,提高還原時SiHCl 3 的轉化率,
故答案為:升高溫度或增大氫氣與SiHCl 3 的物質的量之比或增大氫氣濃度;
(2)①SiHCl 3 (l)和SiCl 4 (l)是互溶的液體,採用蒸餾的方法分離,故答案為:蒸餾;
②Si(s)+3HCl(g)?SiHCl 3 (g)+H 2 (g)△H=-210kJ/mol①
Si(s)+4HCl(g)?SiCl 4 (g)+2H 2 (g)△H=-241kJ/mol②
根據蓋斯定律則②-①得:SiHCl 3 (g)+HCl(g)?SiCl 4 (g)+H 2 (g)△H=-31kJ/mol,故答案為:-31;
③由圖示可知反應物有粗硅、HCl、H 2 ;反應過程中生成物有:SiHCl 3 、H 2 、SiCl 4 、HCl,所以在反應物中和生成物中都有的物質是HCl、H 2 ,所以流程中可循環使用的物質是HCl、H 2 ,故答案為:氯化氫、氫氣.

與化學實驗制備三氯氫硅的裝置有哪些相關的資料

熱點內容
word中化學式的數字怎麼打出來 瀏覽:745
乙酸乙酯化學式怎麼算 瀏覽:1410
沈陽初中的數學是什麼版本的 瀏覽:1362
華為手機家人共享如何查看地理位置 瀏覽:1053
一氧化碳還原氧化鋁化學方程式怎麼配平 瀏覽:893
數學c什麼意思是什麼意思是什麼 瀏覽:1420
中考初中地理如何補 瀏覽:1311
360瀏覽器歷史在哪裡下載迅雷下載 瀏覽:711
數學奧數卡怎麼辦 瀏覽:1401
如何回答地理是什麼 瀏覽:1034
win7如何刪除電腦文件瀏覽歷史 瀏覽:1062
大學物理實驗干什麼用的到 瀏覽:1493
二年級上冊數學框框怎麼填 瀏覽:1712
西安瑞禧生物科技有限公司怎麼樣 瀏覽:999
武大的分析化學怎麼樣 瀏覽:1254
ige電化學發光偏高怎麼辦 瀏覽:1344
學而思初中英語和語文怎麼樣 瀏覽:1665
下列哪個水飛薊素化學結構 瀏覽:1429
化學理學哪些專業好 瀏覽:1492
數學中的棱的意思是什麼 瀏覽:1070
© Arrange www.upscalepup.com 2012-2022
溫馨提示:資料來源於互聯網,僅供參考