㈠ 製取純硅的化學方程式
樓樓你好
SiO2+2C=2CO+Si(高溫,得到粗硅)
MnO2+4HCl=MnCl2+Cl2+2H2O(加熱)
C+H2O=CO+H2(高溫)
這兩步是製取氯氣和氫氣作為加工粗硅的原料
制純硅
Si+2Cl2=SiCl4(加熱)
SiCl4+2H2=Si+4HCl(加熱)
這道題的答案應該寫這兩個方程式
如有疑問請追問
祝學好
㈡ 高中化學如何制備硅
粗硅的製取:SiO2 + 2C = Si + 2CO(氣體) 要高溫
粗硅轉變為純硅:Si + 2Cl2 = SiCl4 要加熱
SiCl4 + 2H2 = 4HCl+Si 要高溫
麻煩採用 呵呵
㈢ 化學上製取高純硅的方法如下:①用碳在高溫下還原二氧化硅,可製得含有少量雜質的硅,同時有CO生成;②將
①由「用碳在高溫下還原二氧化硅,可製得含有少量雜質的硅,同時有CO生成」可知反應物是碳和而氧化硅,生成物是硅和一氧化碳,反應條件是高溫,故答案為:2C+SiO2
高溫 | .
㈣ 怎樣制備高純硅
高純硅的制備一般首先由硅石(SiO2)製得工業硅(粗硅),再製成高純的多晶硅,最後拉製成半導體材料硅單晶。 工業上是用硅石(SiO2)和焦炭以一定比例混合,在電爐中加熱至1600~1800℃而製得純度為95%~99%的粗硅,其反應如下:SiO2+2C=Si+2CO 粗硅中一般含有鐵、鋁、碳、硼、磷、銅等雜質,這些雜質多以硅化構成硅酸鹽的形式存在,為了進一步提高工業粗硅的純度,可採用酸浸洗法,使雜質大部分溶解(有少數的碳化硅不溶)。其生產工藝過程是:將粗硅粉碎後,依次用鹽酸、王水、(HF+H2SO4)混合酸處理,最後用蒸餾水洗至中性,烘乾後可得含量為99.9%的工業粗硅。 高純多晶硅的制備方法很多,據布完全統計有十幾種,但所有的方法都是從工業硅(或稱硅鐵,因為含鐵較多)開始,首先製取既易提純又易分解(即還原)的含硅的中間化合物如SiCl4、SiHCl3、SiH4等,再使這些中間化合物提純、分解或還原成高純度的多晶硅 目前我國制備高純硅多晶硅主要採用三氯氫硅氫還原法、硅烷熱解法和四氯化硅氫還原法。一般說來,由於三氯氫硅還原法具有一定優點,目前比較廣泛的被應用。此外,由於SiH4具有易提純的特點,因此硅烷熱分解法是制備高純硅的很有發展潛力的方法。下面我們就分別介紹上述三種方法制備高純硅的化學原理。 1. 三氯氫硅還原法 (1) 三氯氫硅的合成 第一步:由硅石製取粗硅 硅石(SiO2)和適量的焦炭混合,並在電爐內加熱至1600~1800℃ 可製得純度為95%~99%的粗硅。其反應式如下: SiO2+3C=SiC+2CO(g)↑ 2SiC+SiO2=3Si+2CO(g)↑ 總反應式: SiO2+2C=Si+2CO(g)↑ 生成的硅由電爐底部放出,澆鑄成錠。用此法生產的粗硅經酸處理後,其純度可達到99.9%。 第二步:三氯氫硅的合成 三氯氫硅是由乾燥的氯化氫氣體和粗硅粉在合成爐中(250℃)進行合成的。其主要反應式如下:Si+3HCl=SiHCl3+H2(g) (2) 三氯氫硅的提純 由合成爐中得到的三氯氫硅往往混有硼、磷、砷、鋁等雜質,並且它們是有害雜質,對單晶硅質量影響極大,必須設法除去。 近年來三氯氫硅的提純方法發展很快,但由於精餾法工藝簡單、操作方便,所以,目前工業上主要用精餾法。三氯氫硅精餾是利用三氯氫硅與雜質氯化物的沸點不同而分離提純的。 一般合成的三氯氫硅中常含有三氯化硼(BCl3)、三氯化磷(PCl3)、四氯化硅(SiCl4)、三氯化砷(AsCl3)、三氯化鋁(Al2Cl3)等氯化物。其中絕大多數氯化物的沸點與三氯氫硅相差較大,因此通過精餾的方法就可以將這些雜質除去。但三氯化硼和三氯化磷的沸點與三氯氫硅相近,較難分離,故需採用高效精餾,以除去這兩種雜質。精餾提純的除硼效果有一定限度,所以工業上也採用除硼效果較好的絡合物法。 三氯氫硅沸點低,易燃易爆,全部操作要在低溫下進行,一般操作環境溫度不得超過25℃,並且整個過程嚴禁接觸火星,以免發生爆炸性的燃燒。 (3) 三氯氫硅的氫還原 提純三氯氫硅和高純氫混合後,通入1150℃還原爐內進行反應,即可得到硅,總的化學反應是:SiHCl3+H2=Si+3HCl 生成的高純多晶硅淀積在多晶硅載體上。
㈤ 簡單介紹硅的製取。
工業上,通常是在電爐中由碳還原二氧化硅而製得。 化學反應方程式: SiO2 + 2C → Si + 2CO 這樣製得的硅純度為97~98%,叫做金屬硅。再將它融化後重結晶,用酸除去雜質,得到純度為99.7~99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅,還要將其轉化成易於提純的液體或氣體形式,再經蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅,則需要進行進一步的提純處理。 詳細資料:http://ke..com/view/4748.htm
㈥ 四氯化硅得到純硅的化學方程式
樓主你好 記得採納哦! 一般來說,工業製取高純單晶硅主要採用以下方法: ①首先由石英砂和焦炭在電弧爐中製取純度較低的粗硅 SiO2+2C==(3273K)Si+2CO↑ ②然後將粗硅轉化為有揮發性並易提純的四氯化硅或三氯氫硅 Si+2Cl2==(723~773K)SiCl4 Si+3HCl==(523~573K)SiHCl3+H2↑ ③再用精餾法提純SiCl4或SiHCl3,在電爐中用氫氣還原,得到純度較高的硅 SiCl4+2H2==(加熱)Si+4HCl ④最後我們用區域熔融法進一步提純並製成高純單晶硅
㈦ 製取純硅的化學方程式
樓樓你好 SiO2+2C=2CO+Si(高溫,得到粗硅) MnO2+4HCl=MnCl2+Cl2+2H2O(加熱) C+H2O=CO+H2(高溫) 這兩步是製取氯氣和氫氣作為加工粗硅的原料
制純硅 Si+2Cl2=SiCl4(加熱) SiCl4+2H2=Si+4HCl(加熱) 這道題的答案應該寫這兩個方程式 如有疑問請追問 祝學好
㈧ 硅的提純,步驟,解釋
步驟: 1、用焦炭與石英砂(SiO2)混合高溫,產生粗硅。(SiO2+2C=高溫=Si+2CO↑) 2、將粗硅與氯氣高溫,生成四氯化硅。(Si+2Cl2=高溫=SiCl4) 3、將氫氣與四氯化硅高溫,生成單晶硅。(SiCl4+2H2=高溫=Si+4HCl)
㈨ 如何製取高純硅的步驟 高一知識
制備高純硅需要粗硅、HCl和氫氣,分別由石英、天燃氣和食鹽製得 化學式如下: 食鹽制備HCl:NaCl+H2SO4→NaHSO4+HCl 天燃氣制備H2:CH4+CO2→2H2+2CO 石英制備粗硅:SiO2+2C→Si+2CO Si+3HCl=SiHCl3+H2 SiHCl3+H2=Si+3HCl 得到高純硅
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