氮化硅的化學方程式怎麼寫

A. 工業生產氮化硅的化學方程式

1、硅粉直接氮化法，該方法採用化學純的硅粉（分析純：95%以上）在NH3，N2+H2或N2氣氛中直接與氮反應實現，其反應方程式如下：硅粉直接氮化合成Si3N4微細粉的優點是工藝流程簡單，成本低缺點是該方法反應慢需較高的反應溫度和較長的反應時間，制備的Si3N4粒徑分布較寬，需要進一步經過粉碎、磨細和純化才能達到質量要求。

2、SiO2還原氮化法，將SiO2的細粉與碳粉混合後，通過熱還原首先生成SiO，然後SiO再被氮化生成塊狀的Si3N4總的化學反應式為：SiO2還原氮化法的特點是原料來源豐富，反應產物是疏鬆粉末，與硅粉氮化產物不需要進行粉碎處理，從而避免了雜質的重新引入，所以用該法製得Si3N4粉末粒型規整，粒度分布窄。

B. 氮化硅的化學式

一般寫這樣的化學式是注意的是，如果你學了元素周期表的話，就簡單了，一般非金屬性強的非金屬元素顯負價，相對非金屬性弱的顯正價。負價=8-最外層電子數。
正價=最外層電子數。所以氮化硅的化學式是si3n4。

C. 求助：氮化硅被氫氟酸腐蝕的化學方程式

1.硅+4價,氮-3價,所以氮化硅的化學式是Si3N4；

2.Si3N4 + 12 HF = 3SiF4↑ + 4NH3↑；搏純（SiF4為氣體）

3.氮頃態化硅陶瓷抗腐蝕能力強,除氫氟酸外,它不與其他無基乎咐機酸反應.

D. 用單質硅和氮氣在高溫條件下反應生成氮化硅的化學方程式是什麼

工業：高純度硅與純氮氣在耐咐1300度反應3Si+2N2=Si3N4.也可以用化昌腔純學氣相沉積法，在H2的保護下，使SiCl4與N2反應生圓宴成的Si3N4沉積在石墨表面，形成一層緻密的Si3N4層。3SiCl4+2N2+6H2=Si3N4+12HCl

E. 氮化硅的化學方程式是

氮化硅化學式Si3N4。白色粉狀晶體;熔點1900℃,密度3.44克/厘米(20℃)；有兩種變體：α型為六方密堆積結構；β型為似晶石結構。氮化硅有雜質或過量硅時呈灰色。
氮化硅的強度很高，尤其是熱壓氮化硅，是世界上最堅硬的物質之一。它極耐高溫，強度一直可以維持到1200℃的高溫而不下降，受熱後不會熔成融體，一直到1900℃才會分解，並有驚人的耐化學腐蝕性能，能耐幾乎所有的無機酸和30%以下的燒鹼溶液，也能耐很多有機酸的腐蝕；同時又是一種高性能電絕緣材料。