無塵室最多能放多少升化學品

1. 現場到底能存放多少危險化學品

這個要參考《GB50016-2014建築設計防火規范》以及以下法規：首先要明確你們危險化學品的分類，其次是看你們要放在哪裡，例如是車間還是專用倉庫，倉庫或車間的防火等級又是怎樣的，防火等級與防火間距、儲存物料具有關聯。例如以下圖片是該規范的摘錄：

GB50016-2014《建築設計防火規范》
3.3.6廠房內設置甲、乙類中間倉庫時，其儲量不宜超過一晝夜的需要量。

《危險化學品安全管理條例》
第二十四條危險化學品應當儲存在專用倉庫、專用場地或者專用儲存室（以下統稱專用倉庫）內，並由專人負責管理；劇毒化學品以及儲存數量構成重大危險源的其他危險化學品，應當在專用倉庫內單獨存放，並實行雙人收發、雙人保管制度。
危險化學品的儲存方式、方法以及儲存數量應當符合國家標准或者國家有關規定。
第二十五條儲存危險化學品的單位應當建立危險化學品出入庫核查、登記制度。
對劇毒化學品以及儲存數量構成重大危險源的其他危險化學品，儲存單位應當將其儲存數量、儲存地點以及管理人員的情況，報所在地縣級人民政府安全生產監督管理部門（在港區內儲存的，報港口行政管理部門）和公安機關備案。

GA 654—2006《人員密集場所消防安全管理》
7.10.3人員密集場所需要使用易燃易爆化學物品時，應根據需要限量使用，存儲量不應超過一天的使用量，且應由專人管理、登記。
8.8.2車間內中間倉庫的儲量不應超過一晝夜的使用量。生產過程中的原料、半成品、成品應集中擺放，機電設備、消防設施周圍0.5m的范圍內不得堆放可燃物。

希望能幫到你，滿意請採納。

2. 無塵車間的安全要求

一、無塵室須知
1. 進入無塵室前，必須知會管理人，並通過基本訓練。
2. 進入無塵室嚴禁吸煙，吃(飲)食，外來雜物(如報章，雜志，鉛筆...等)不可攜入，並嚴禁嘻鬧奔跑及團聚談天。
3. 進入無塵室前，需在規定之處所脫鞋，將鞋置於鞋櫃內，外衣置於衣櫃內，私人物品置於私人櫃內，櫃內不可放置食物。
4.進入無塵室須先在更衣室，將口罩，無塵帽，無塵衣以及鞋套按規定依程序穿戴整齊，再經空氣洗塵室洗塵，並踩踏除塵地毯(洗塵室地板上)方得進入。
5. 戴口罩時，應將口罩戴在鼻子之上，以將口鼻孔蓋住為原則，以免呼吸時污染晶元。
6. 穿著無塵衣，無塵帽前應先整理服裝以及頭發，以免著上無塵衣後，不得整理又感不適。
7. 整肅儀容後，先戴無塵帽，無塵帽的穿戴原則系:
(1)頭發必須完全覆蓋在帽內，不得外露。
(2)無塵帽之下擺要平散於兩肩之上，穿上工作衣後，方不致下擺脫出，裸露肩頸部。
8.無塵帽戴妥後，再著無塵衣，無塵衣應尺吋合宜，才不致有褲管或衣袖太短而裸露皮膚之虞，穿衣時應注意帽之下擺應保平整之狀態，無塵衣不可反穿。
9. 穿著無塵衣後，才著鞋套，拉上鞋套並將鞋套整平，確實蓋在褲管之上。
10. 戴手套時應避免以光手碰觸手套之手掌及指尖處(防止鈉離子污染)，戴上手套後，應將手套之手腕置於衣袖內，以隔絕污染源。
11. 無塵衣著妥後，經洗塵，並踩踏除塵毯，方得進入無塵室。
12. 不論進入或離開無塵室，須按規定在更衣室脫無塵衣，不可在其它區域為之，尤不可在無塵室內邊走邊脫。
13. 無塵衣，鞋套等，應定期清洗，有破損，脫線時，應即換新。
14. 脫下無塵衣時，其順序與穿著時相反。
15. 脫下之無塵衣應吊好，並放於更衣室內上層櫃子中;鞋套應放置於吊好的無塵衣下方。
16. 更衣室內小櫃中，除了放置無塵衣等規定物品外，不得放置其它物品。
17. 除規定紙張及物品外，其它物品一概不得攜入無塵室。
18. 無塵衣等不得攜出無塵室，用畢放置於規定處所。
19. 口罩與手套可視狀況自行保管或重復使用。
20. 任何東西進入無塵室，必須用灑精擦拭乾凈。
21. 任何設備的進入，請知會管理人，在無塵室外擦拭乾凈，方可進入。
22. 未通過考核之儀器，禁止使用，若遇緊急情況，得依緊急處理步驟作適當處理，例如關閉水、電、氣體等開關。
23. 無塵室內絕對不可動火，以免發生意外。
二、無塵室操作須知
1. 處理晶元時，必須戴上無纖維手套，使用清洗過的干凈鑷子挾持晶元，請勿以手指或其它任何東西接觸晶元，遭碰觸污染過的晶元須經清洗，方得繼續使用：
(1) 任何一支鑷子前端(即挾持晶元端)如被碰觸過，或是鑷子掉落地上，必須拿去清洗請勿用紙巾或布擦拭臟鑷子。
(2) 晶元清洗後進行下一程序前，若被手指碰觸過，必須重新清洗。
(3)把晶元放置於石英舟上，准備進爐管時，若發現所用鑷子有污損現象或晶元上有顯眼由鑷子所引起的污染，必須將晶元重新清洗，並立即更換干凈的鑷子使用。
2. 晶元必須放置盒中，蓋起來存放於規定位置，盡可能不讓它暴露。
3.避免在晶元上談話，以防止唾液濺於晶元上，在晶元進擴散爐前，請特別注意，防止上述動作產生，若晶元上沾有纖維屑時，用氮氣槍噴之。
4. 從鐵弗龍(Teflon)晶舟，石英舟(QuartzBoat)等載具(Carrier)上，取出晶元時，必須垂直向上挾起，避免刮傷晶元，顯微鏡鏡頭確已離晶元，方可從吸座上移走晶元。
5. 晶元上，若已長上氧化層，在送黃光室前切勿用鑽石刀在晶元上刻記。
6. 操作時，不論是否戴上手套，手絕不能放進清洗水槽。
7. 使用化學站或烤箱處理晶元時，務必將晶元置放於鐵弗龍晶舟內，不可使用塑料盒。
8. 擺置晶元於石英舟時，若晶元掉落地上或手中則必須重新清洗晶元，然後再進氧化爐。
9. 請勿觸摸晶元盒內部，如被碰觸或有碎晶元污染，必須重作清洗。
10. 手套，廢紙及其它雜碎東西，請勿留置於操作台，手套若燒焦、磨破或纖維質變多必須換新。
11. 非經指示，絕不可開啟不熟悉的儀器及各種開關閥控制鈕或把手。
12. 奇怪的味道或反應異常的溶液，顏色，聲響等請即通知相關人員。
13. 儀器因操作錯誤而有任何損壞時，務必立刻告知負責人員或老師。
14. 晶元盒進出無塵室須保持干凈，並以保鮮膜封裝，違者不得進入。
15. 無塵室內一律使用原子筆及無塵筆記本做記錄，一般紙張與鉛筆不得攜入。
三、黃光區操作須知
1. 濕度及溫度會影響對准工作，在黃光區應注意溫度及濕度，並應減少對准機附近的人，以減少濕、溫度的變化。
2. 上妥光阻尚未曝光完成之晶元，不得攜出黃光區以免感光。
3. 己上妥光阻，而在等待對准曝光之晶元，應放置於不透明之藍黑色晶盒之內， 盒蓋必須蓋妥。
4. 光罩使用時應持取邊緣，不得觸及光罩面，任何狀況之下，光罩鉻膜不得與他物接觸，以防刮傷，光罩之落塵可以氮氣槍吹之。
5. 曝光時，應避免用眼睛直視曝光機汞燈。
四、鑷子使用須知
1. 進入實驗室後，應先戴上手套後，再取鑷子，以免沾污。
2. 唯有使用干凈的鑷子，才可持取晶元，鑷子一旦掉在地上或被手觸碰，或因其它原因而遭污染，必須拿去清洗，方可再使用。
3. 鑷子使用後，應放於各站規定處，不可任意放置，如有特殊製程用鑷子，使用後應自行保管，不可和實驗室內各站之鑷子混合使用。
4. 持鑷子應采"握筆式"姿勢挾取晶元。
5. 挾取晶元時，順序應由後向前挾取，放回晶元時，則由前向後放回，以免刮傷晶元表面。
6. 挾取晶元時，"短邊" (鋸狀頭)置於晶元正面，"長邊" (平頭)置於晶元背面，挾晶元空白部分，不可傷及晶元。
7. 嚴禁將鑷子接觸酸槽或D.I Water水槽中。
8. 鑷子僅可做為挾取晶元用，不準做其它用途。
五、化學葯品使用須知
1. 化學葯品的進出須登記，並知會管理人，並附上物質安全資料表（MSDS）於實驗室門口。
2. 使用化學葯品前，請詳讀物質安全資料表(MSDS)，並告知管理人。
3. 換酸前必先穿著防酸塑料裙，戴上防酸長袖手套，頭戴護鏡，腳著塑料防酸鞋，始可進行換酸工作。
4. 不得任意打開酸瓶的蓋子，使用後立即鎖緊蓋子。
5. 稀釋酸液時，千萬記得加酸於水，絕不可加水於酸。
6. 勿嘗任何化學葯品或以嗅覺來確定容器內之葯品。
7. 不明容器內為何種葯品時，切勿搖動或倒置該容器。
8. 所有化學葯品之作業均須在通風良好或排氣之處為之。
9. 操作各項酸液時須詳讀各操作規范。
10. 酸類可與鹼類共同存於有抽風設備的儲櫃，但絕不可與有機溶劑存放在一起。
11. 廢酸請放入廢酸桶，不可任意傾倒，更不可與有機溶液混合。
12. 廢棄有機溶液置放入有機廢液桶內，不可任意傾倒或倒入廢酸桶內。
13. 勿任意更換容器內溶液。
14.欲自行攜入之溶液請事先告知經許可後方可攜入，如果欲自行攜入之溶液具有危險性時，必須經評估後方可攜入，並請於容器上清楚標明容器內容物及保存期限。
15. 廢液處理：廢液分酸、鹼、氫氟酸、有機、等，分開處理並登記，回收桶標示清楚，廢液桶內含氫氟酸等酸鹼，絕對不可用手觸碰。
16.漏水或漏酸處理：漏水或漏酸時，為確保安全，絕對不可用手觸碰，先將電源總開關與相關閥門關閉，再以無塵布或酸鹼吸附器處理之，並報備管理人。
六、化學工作站操作
1. 操作時須依規定，戴上橡皮手套及口罩。
2. 不可將塑料盒放入酸槽或清洗槽中。
3. 添加任何溶液前，務必事先確認容器內溶劑方可添加。
4. 在化學工作站工作時應養成良好工作姿勢，上身應避免前傾至化學槽及清洗槽之上方，一方面可防止危險發生，另一方面亦減少污染機會。
5. 化學站不操作時，有蓋者應隨時將蓋蓋妥，清洗水槽之水開關關上。
6. 化學葯品濺到衣服、皮膚、臉部、眼睛時，應即用水沖洗濺傷部位15分鍾以 上，且必須皮膚顏色恢復正常為止，並立刻安排急救處理。
7. 化學品外泄時應迅速反應，並做適當處理，若有需要撤離時應依指示撤離。
8. 各化學工作站上使用之橡皮手套，避免觸碰各機台及工作台，及其它器具等物，一般操作請戴無塵手套。
七、RCA Method
1. DIWater 5min
2. H2SO4:H2O2=3:1 煮10~20min 75~85℃，去金屬、有機、油
3. DIWater 5min
4. HF:H2O 10~30sec，去自然氧化層(Native Oxide)
5. DIWater 5min
6. NH4OH:H2O2;H2O=1:1:5 煮10~20min 75~85℃，去金屬有機
7. DIWater 5min
8. HCl:H2O2:H2O=1:1:6 煮10~20min 75~85 ℃ 去離子
9. DIWater 5min
10. Spin Dry
八、清洗注意事項
1. 有水則先倒水，H2O2最後倒，數字比為體積比。
2. 有機與酸鹼絕對不可混合，操作平台也務必分開使用。
3. 酸鹼溶液等冷卻後倒入回收槽，並以DI Water沖玻璃杯5 min。
4. 酸鹼空瓶以水清洗後，並依塑料瓶，玻璃瓶分開置於室外回收筒。
5. 氫氟酸會腐蝕骨頭，若碰到立即用葡萄酸鈣加水塗抹，再用清水沖洗干凈，並就醫。碰到其它酸鹼則立即以DI Water大量沖洗。
6. 清洗後之Wafer盡量放在DI Water中避免污染。
7. 簡易清洗步驟為1-2-9-10；清洗SiO2步驟為1-2-10；清洗Al以HCl:H2O=1:1。
8. 去除正光阻步驟為1-2-10，或浸入ACE中以超音波振盪。
9. 每個玻璃杯或槽都有特定要裝的溶液，蝕刻、清洗、電鍍、有機絕不能混合。
10. 廢液回收分酸、鹼、氫氟酸、電鍍、有機五種，分開回收並記錄，傾倒前先檢查廢棄物兼容性表，確定無誤再傾倒。
無塵室系統
使用操作方法
1. 首先打開控制器面板上的【電熱運轉】、【加壓風車運轉】、【浴塵室運轉】、【排氣風車運轉】等開關。
注意:
＊ 溫度控制器及濕度控制器可由黃色鈕調整，一般溫度控制為20℃ DB ，濕度控制為50% RH。
＊左側的控制器面板上電壓切換開關為【RU】，電流切換開關為【T】。右側的控制器面板上電壓切換開關為【RS】，電流切換開關為【OFF】。
2. 將箱型空氣調節機的送風關關打開，等送風穩定後再將冷氣暖氣開關打開，此時紅色燈會亮起，表示正常運作。
注意:
＊ 冷氣的起動順序為壓縮機【NO.2】。
＊ 溫度調節為指針指向紅色暖氣【5】。
＊ 分流開關AIR VALVE 為【ON】。
3. 無塵室使用完畢後，要先將箱型空氣調節機關閉，按【停止】鍵即可。
4. 再將控制器面板上的【電熱運轉】、【加壓風車運轉】、【浴塵室運轉】、【排氣風車運轉】等開關依序關閉。

氣體鋼瓶
使用操作方法
1. 用把手逆時針打開氣體鋼瓶到底，將【OUTLET】打開PURGE關閉。
2. 由黑色轉鈕調整氣體鋼瓶的壓力(psi)，順時針方向為增加，逆時針方向為減少。
3. 將N2鋼瓶調整為40psi（黃光室內為20psi）,AIR鋼瓶調整為80psi（黃光室內為60psi）。
4. 氣體鋼瓶使用完畢後，用把手順時針關閉氣體鋼瓶到底，將【OUTLET】關閉【PURGE】打開將管路內的氣體排出後將【PURGE】關閉。
純水系統
使用操作方法
1. 閥門控制
(1) 閥門(VALVE)V1、V2、V3、V4、V6、V8、V10、V12、V13、V14、V16、V17、V19應保持全開。
(2) 閥門V5、V7、V11、V18、V21應保持全關。
(3) 閥門V9、V20為調壓作用，不可全開或全關。
(4) 閥門中V5為砂濾機之BY-PASS，V15為U.V燈之BY-PASS，V18為DI桶之BY-PASS，V21為RO膜之BY-PASS。
2. 自動造水
步驟1：如上【閥門控制】將各球閥門開關定位。
步驟2：控制箱上，各切換開關保持在【OFF】位置。
步驟3：將控制箱上【系統運轉】開關切換至【ON】位置。
步驟4：電磁閥1 激活先做初期排放。
步驟5：電磁閥2 激活造水。
步驟6：此時，PUMP1、PUMP2依序激活，系統正常造水，RO產水經管路進入儲水桶(TANK)，當水滿後控制箱上高液位指示燈亮，系統自動停機，並於儲水桶水位下降至低液位時再激活造水。
3. 系統用水
將控制箱上之【夜間循環-停-用水】切換開關切換至【用水】，此時PUMP3輸送泵浦激活，TANK內之純水經幫浦輸送至U.V、DI桶及精密過濾後，供現場各使用點使用。
4. 夜間循環
控制箱上之【夜間循環-停-用水】切換開關，主要在配合每日下班或連續假日停止供水後管路之衛生考慮，其步驟為:
(1) 停止供水59分鍾後，系統再自動供水1分鍾。
(2) 此後每隔59分鍾供水循環1分鍾至夜間循環【停】為止。
5. 系統偵測
本系統中附有各項壓力表、流量計及導電度計，作為系統運轉之控制，其功能如下:
壓力表1：砂濾機進水壓力
壓力表2：RO進水壓力
壓力表3：RO排水壓力
壓力表4：DI進水壓力
壓力表5：供水迴流壓
流量計1：RO排水流量
流量計2：RO產水流量
另外，控制箱(機房)附有二段式LED導電度顯示屏，原水及產水分別切換顯示。
6. 系統維護
HF-RD系統，應定期更新之耗材:
(1) 砂濾機應定期逆時。
(2)預濾應每1-2個月更新。
(3)膜管應視其去除率及產水量做必要之清洗或更新。
(4)樹脂混床視比電阻值更新。
(5)精密過濾約每2-4個月更新。
7. 故障排除
現 象 可能因素 排除方法
系統停機、系統無法激活 1. 外電源異常2. 系統運轉開關未按下3. 系統電路故障4. 馬達/泵浦故障 1. 檢查系統電源電路2. 按下系統運轉開關3. 通知廠商4. 更新馬達/泵浦
低產水量 1. 膜管排水量太高2. 壓力不足3. 膜管阻塞 1. 調整排水閥V92. 清洗膜管或更新膜管
低比電阻 1. 樹脂功能下降2. RO去除率下降 1. 更換樹脂2. 更換RO膜組

光罩對准機
使用操作方法
曝光機簡介
在半導體製程中，塗布光阻後的晶元，須經UV紫外光照射曝光顯影，此台曝光機為OAI200系列，整合光罩對准、UV紫外光曝光顯影、UV紫外光測量裝置及光罩夾持裝置。
OAI200系列為一入門型光罩對准儀，可以手動操作更改各項使用參數，如曝光時間、曝光強度及曝光功率等等。對於中高階的線寬有很好的顯影效果，此系列最大可使用四吋的晶元，最大的曝光功率為1KW。
曝光機使用步驟
1. 檢查氮氣鋼瓶〈AIR 60psi〉〈N220psi〉以及黃光室的氮氣閥、空氣閥是否有開啟。開啟曝光機下方延長線的紅色總開關，再開啟曝光機、顯微鏡。
2. 接上隧道式抽風馬達電源，進行曝光機抽風步驟，並檢查曝光機上方汞燈座後面進風口是否有進氣。如果風量微小或者無進氣，則無法開啟汞燈的電源〈會有警報聲〉。確定進風口有進氣後，才可開啟曝光機下方的汞燈電源供應器ON/OFF開關。
3. 按住汞燈電源供應器之START鍵，約1~3秒鍾，此時電流值會上升〈代表汞燈點亮，開始消耗電流〉，馬上放掉按鍵，汞燈即被點亮。
4. 汞燈點亮後，至少須待機30分鍾，使Lightsource系統穩定。假使汞燈無法點亮，請不要作任何修護動作。
5. 待系統穩定後，把電源供應器上的電壓、電流值填到紀錄表上，每一次開燈使用都要登記作為紀錄。
6. 旋開光罩夾具之螺絲，光罩之正面〈鍍鉻面〉朝下，對准三個基準點，壓下【MASKVAC.】鍵，使真空吸住光罩，再鎖好螺絲以固定光罩。
注意：
＊ MASK Holder 必須放下時才能放置光罩。扳動【MASK FRAME UP/DOWN】可使MASKHolder升起或放下。
＊ 先用氮氣吹光罩和MASK Holder，光罩正面朝下，對准黑邊鐵框，手勿接觸光罩，壓下【MASKVAC.】鍵，使真空吸住光罩，鎖上旁邊兩個黑鐵邊。
＊ 檢查放置晶元的圓形基座CHUNK是否有比光罩低些，防止光罩壓破晶元。
7. 扳起【MASK FRAME UP/DOWN】鍵，使MASKHolder上升，放置晶元到CHUNK上，將【SUB VAC.】鍵扳至ON，使真空吸住晶元，扳下【MASK FRAMEUP/DOWN】鍵，使MASK Holder放下。
8. 扳動台邊鈕(Ball LockButton)為Unlock，順時針方向慢慢旋轉旋轉鈕(Z knob)，使晶元基座上升，直到傳動皮帶感覺已拉緊即可，然後逆時針旋轉ZKnob約15格，扳動台邊鈕(Ball Lock Button)為Lock。
注意：
＊ Z knob 每格約15 microns。
＊ 逆時針方向旋轉Zknob，會使放置晶元基座下降，其目的是為了作對准時，讓晶元和光罩有些許的距離，使晶元與光罩不會直接摩擦。
＊ 若不須對准時，可以不使用逆時針方向旋轉Z knob。
＊ 旋轉Zknob時，不論順時針或逆時針轉動，當皮帶打滑時，代表晶元基座已和光罩接觸，此時不可逆時針旋轉，而導致內部螺栓松脫。
＊ CHUNK ¨ Z ¨ ADJUST一般為15A~20 A之間，且電流越小皮帶越松。
9. 移動顯微鏡座，至光罩上方，作晶元與光罩的對准校正。如須調整晶元的位置，可使用晶元基座旁的微調桿，校正晶元座X、Y及θ。
10.

100 SEC
1000 SEC
RESET
EXPOSE
SEC
曝光機面板左側如下圖：

注意：
＊曝光秒數有兩種設定，一種為1000SEC，一種為100SEC。當按下1000SEC時，計數器最大可設999秒的曝光時間；按下100SEC時，計數器最大可設99.9秒的曝光時間。
＊ 再設定曝光秒數時要先測量汞燈的亮度，先按LAMP TEST再按住把手上的按鈕移動基座至曝光機左端底，後然將OAI 306 UVPOWERMETER放置於CHUNK上即可，完畢後按RESET，而且可多測幾個不同的位置，觀看汞燈的亮度是否均勻，所測得的單位為mw/cm2，乘時間(SEC)即變可mJ的單位。
11. 設定好曝光秒數後，即可進行曝光的程序。扳動【CONTACT VAC.】至ON，【N2 PURGE】至ON，則晶元和光罩之間會產生些許的真空。
注意:
＊【CONTACT VAC ADJUST】的范圍一般為紅色-25kpa 左右。
12. 按住把手上的按鈕，此時基座才可移動，移至曝光機左端底，放開按鈕，則曝光機會自動進行曝光的動作。
13. 曝光完成後，即可將基座移回曝光機右端。扳動扳動【N2 PURGE】為OFF。再扳動【CONTACTVAC.】至OFF，儀器會充氮氣破光罩與晶元間的真空，方便使用者拿出晶元。
14. 逆時針旋轉Z knob，降下晶元基座至最低點。松開光罩固定的黑邊鐵框，拉起【MASK VAC.】鈕，即可破除MASKHolder的真空，光罩即可取出。
15. 扳起【MASK FRAME UP/DOWN】為UP，使MASK Holder升起。扳動【SUBVAC.】為OFF，使用晶元夾取出晶元，再扳【MASK FRAME UP/DOWN】為DOWN。
16. 如須進行再一次的曝光，則可重復上述步驟。
17. 完成所有的曝光程序後，先關掉顯微鏡光源產生器，再關掉汞燈電源供應器。〈關燈後一小時內不可再開啟汞燈，已延長汞燈壽命〉
18. 先關隧道式抽風馬達電源，關掉曝光機的開關【SYSTEMON/OFF】為OFF，再關掉曝光機下方的延長線總開關。待曝光機冷卻後，最後再關掉牆上氮氣閥及空氣閥。
熱蒸鍍機
使用操作方法
A.開機步驟
1. 開機器背面的總電源開關。
2. 開冷卻水，需先激活D.I Water 系統。
3. 開RP，熱機2分鍾。
4. 開三向閥切至F.V的位置，等2分鍾。
5. 開DP，熱機30分鍾(熱機同時即可進行Sample 之清洗與裝載，以節省時間)。
B.裝載
1. 開Vent，進氣之後立刻關閉。
2. 開Chamber。
3. Loading Sample、Boat及金屬。
4. 以Shutter擋住Sample。
5. 關Chamber，關門時務必注意門是否密合，因機器年久失修，通常須用手壓緊門的右上角。
C.抽真空
1. 初抽
(1)三向閥切至R.V位置(最好每隔幾分鍾就切換到F.V一下，以免DP內的幫浦油氣分子擴散進入chamber中)。
(2) 真空計VAP-5顯示至5´10-2 torr時三向閥切至F.V，等30秒。
2. 細抽
(1) M.V ON，記錄時間。
(2) ION GAUGE ON，壓下Fil 點燃燈絲(需要低於10-3 Torr以下才抽氣完成)。
D.蒸鍍
1. 壓力約2´10-5 Torr時，開始加入液態氮。
2. 壓力低於2´10-6 Torr時，記錄壓力及抽氣時間並關掉ION GAUGE。
3. Heater Power ON (確定Power調整鈕歸零)。
4. 選擇BOAT1 or BOAT2。
5. 蒸鍍開始，注意電流需慢慢增加。
注意:
＊ 鍍金時，儀表上電流約100A，鍍Al時電流可稍微小些，約70~80A。
＊ 當BOAT高熱發出紅光時，應立即關閉觀景窗，以免金屬附著在觀景窗的玻璃上。
＊ 空鍍幾秒將待鍍金屬表面清干凈後即可打開Shutter，開始蒸鍍。
＊ 蒸鍍完成後，立刻關閉HeaterPower，等10~15分鍾讓BOAT冷卻及蒸鍍後的金屬冷卻，避免立即和空氣接觸而氧化，才可vent破真空。
E.破真空
1. Substrate Hold溫度需要降至常溫。
2. ION GAUGE 【POWER】OFF。
3. M.V OFF。
4. DP OFF 冷卻30~60分鍾。
5. 開Vent(進氣後立刻關閉)。
6. 開Chamber，取出Sample及BOAT。
7. 關Chamber，注意將門關緊。

F.關機
1. 關F.V。
2. 開R.V，抽至0.01 Torr之後關閉。
3. 開F.V，30秒後三向閥切至關閉之位置。
4. RP OFF。
5. 關總電源。
6. 關冷卻水。
7. 關氮氣。
注意：
＊ 蒸鍍時，電流應緩慢增大，且不可太大，以免金屬在瞬間大量氣化，使厚度不易控制。
＊ 若接續他人使用，液態氮可少灌一點兒，約三分之一筒即可。
氧化爐管
使用操作方法
氧化爐管簡介
本實驗室所採用之氧化爐管為Lenton LTF1200水平管狀式爐子，可放2英吋硅晶圓，加熱區大於50cm，最高溫度可達1200°C並可連續24hr，最大操作溫度為1150°C，溫控方式採用PID微電腦自動溫度控制器。
目的
將硅晶元曝露在高溫且含氧的環境中一段時間後，我們可以在硅晶元的表面生長一層與硅的附著性良好，且電性符合我們要求的絕緣體-SiO2。
注意:
＊在開啟氧化爐之前，必須先確定【HEAT】Switch設定為【O】關閉的狀態。Switch在有電源供應時【l】將會發光，而氧化爐也將開始加熱。
＊如果過溫保護裝置是好的，請確定警報點的設定於目前的使用過程中為恰當地。如果過熱保護裝置是好的，蜂嗚器會有聲音，在過溫控制操作中有警報一致的程序。
＊ 為了改善石英玻璃管或襯套熱量的碰撞，其加熱速率最大不能超過3°C per min。
＊ 為了減少熱流失，必須確定正確的操作程序，適當的使用絕緣栓和放射遮蔽可以密封石英玻璃管。
＊ 在操作氧化爐時不要在最大溫度下關閉氧化爐，以延長氧化爐的壽命。
操作步驟:
1. 檢查前一次操作是否有異常問題發生，並填寫操作記錄。
2. 檢查機台狀態
(1) 控制面板狀態：使用前先確定【HEAT】Switch設定為【O】關閉的狀態。
(2) 加熱控制器: Lenton LTF 1200溫度>400°C，前後段爐溫差£40°C。
(3) 氣體控制:H2【OFF】，O2 【OFF】。
3. 將晶元緩慢的推入爐管內。
4. 打開牆上H2、O2之開關和機房的氣瓶調壓閥。
5. 設定預設氣體（H2 、O2）流量值及爐溫。
6. 按下【HEAT】Switch為【l】，此時爐溫將從恆溫(400°C)慢慢加熱至標准製程溫度1100°C，升溫速率最大不能超過3°C per min。
7. 待爐溫降至恆溫後將晶元取出。
8. 關閉H2、O2 。
9. 關閉爐管後端H2之開關及牆上之開關和機房的氣瓶調壓閥。
10. 檢查爐管是否完成關機動作。
11. 填寫操作記錄之終了時間和異常保護及說明。

塗布機
使用操作方法
1. 首先將PUMP的電源插頭插入塗布機後面的電源插座。
2. 將塗布機的插頭插入110V的電源插座，然後按下【POWER】鍵。
3. 設定旋轉的轉速及時間，本機型為二段式加速的Spin Coating，右邊為第一段加速，左邊為第二段加速。
4. 依不同尺寸的基材，可更換不同的旋轉轉盤做塗布的動作。
5.按下【PUMP】鍵，此時旋轉轉盤會吸住基材，然後將光阻依螺旋狀從基材中心均勻且慢慢的往外塗開至適當的量，在做光阻塗開動作時可先用氮氣將旋轉轉盤周圍及基材吹乾凈。
6. 蓋上塗布機的保護蓋，以防止光阻濺出塗布機外。
7. 按下【START】鍵，塗布機便開始做塗布的動作。
8. 塗布完畢後，打開保護蓋，按下【PUMP】鍵旋轉轉盤會放開基材，便可以將基材取出。

熱風循環烘箱
使用操作方法
1. 本機使用電壓110V/60HZ。
2. 確認電壓後，將電源線插入110V的插座。
3. 打開【POWER】開關，此時溫度表PV即顯示箱內實際溫度。
4. 首先按【SET】鍵ÿ，SV會一直閃爍此時即可開始設定溫度，而SV的字幕窗會呈現高亮度，在高亮度的位置可設定所需的溫度，只要再按【SET】鍵ÿ高亮度會隨之移動，在高亮度的地方即可設定溫度。
5. 按上移鍵▲表示溫度往上遞增，按下移鍵▼則溫度往下遞減。
6. 當完成以上設定溫度之後(SV仍閃爍不停)此時只要按一次【ENT】鍵SV即呈現剛才所設定的溫度(PV顯示實際溫度)。
7. 加熱燈OUT顯示燈亮時表示機器正在加熱中，而到達設定點時OUT會一閃一爍(正常現象)。
8. AT燈亮時表示溫度正自動演算中。
9. ALM-1紅色燈亮時表示溫度過熱(溫度會自動降溫)。
10. ALM-2紅色燈亮時表示溫度過低(溫度會自動加溫)。
11. 溫度范圍:40℃~210℃。

3. 甲類化學危險品倉庫 存儲量有什麼要求每次的入庫量有什麼要求（有什麼規范可循）

單位質量不宜超過60kg/m2。屋頂上的泄壓設施應採取防冰雪積聚措施。倉庫的泄壓面積應經計算確定。倉庫的地面應採用不發火地面，倉庫內不應設置地溝。

從事危化品經營活動的單位主要負責人、主管人員和安全生產管理人員及從業人員必須取得相應專業培訓合格證書。（因為一般企業人員從業素質達不到，大部分租賃危險品倉庫的企業貨物必須要求託管。）

根據《建築設計防火規范》（GB50016-2014）第3.3.2條，每座倉庫的耐火等級不低於二級，每座倉庫的最大允許佔地面積為750m2，每個防火分區的最大允許建築面積為250m2。

參考文獻：GB13690-92《常用危險化學品的分類及標志》、GB6944-86《危險貨物分類和品名編號》、GB12268-90《危險貨物名品表》、GB50016-2014 《2014建築設計防火規范》、《MSDS-化學品安全技術說明書》、GB15603-1995 《常用化學危險品貯存通則》、《危險化學品名錄》。

申請危化品經營許可證的條件:

1、自有地址50平以上。

2、提供四名人員參加考試並取得資格證。

3、有相關的安全管理制度以及應急方案。

(3)無塵室最多能放多少升化學品擴展閱讀

申請危險化學品經營許可證辦理所需要的材料：

1、4名工作人員(企業法人須參加)。

2、培訓人員需要提供個人信息。

3、培訓人員還需提供身份證復印件及2寸彩照。

申請《危險品經營許可證》的材料：

1、商業辦公用樓產權證合同。

2、法人股東身份證信息。

3、營業執照正副本掃描件。

4、危險品品名列表。

4. 無塵室怎樣換算限定人數

【無塵室換算限定人數的方法】假設一間100立方米的C級無塵室的換氣次數是20次每小時。這間無塵室允許的人數可以從送風量，無塵室內人體散發浮游菌數和C級無塵室的浮游菌數限度計算出來。
1、無塵室送風量：
房間的容積 x換氣次數 = 100 x 20/60 = 33.33 m³/分鍾
2、無塵室內人體散發浮游菌數：根據<制葯工業的潔凈與空調>書內的實驗數據，無塵室內人體散發浮游菌數的平均值約700 cfu/人/分鍾。
3、C級無塵室的浮游菌數限度為100 cfu/m³；
4、一人一立方米的散發浮游菌數 = 700 ÷ 33.33 = 21 cfu；
5、C級無塵室允許的人數 = 100 ÷ 21 = 5人 ，所以一間100立方米的C級無塵室最多可容納5人。
使用上述的方法, 只需知道兩個變數的數值 (房間的容積和換氣次數) 就能計算出該級無塵室允許的人數。換氣次數的作用是保證有足夠進行稀釋浮游菌數的干凈氣流。

5. 無塵潔凈室的潔凈室等級標准

ISO/DIS 14644-1 潔凈室和潔凈區按空氣中懸浮粒子濃度的分級
ISO分級 大於等於表中所列粒徑懸浮粒子最大允許濃度（顆/m3）
0.1μm 0.2μm 0.3μm 0.5μm 1μm 5μm
ISO1級 10 2
ISO2級 100 24 10 4
ISO3級 1000 237 102 35 8
ISO4級 10000 2370 1020 352 83
ISO5級 100000 23700 10200 3520 832 29
ISO6級 1000000 237000 102000 35200 8320 293
ISO7級 352000 83200 2930
ISO8級 3520000 832000 29300
ISO9級 35200000 8320000 293000
《葯品生產質量管理規范》(1992年修訂)
潔凈級別 活粒數/立方米 活微生物數/立方米
≥0.5μm ≥5μm
100 級 ≤3,500 0 ≤5
10,000 級 ≤350,000 ≤2,000 ≤100
100,000級 ≤3,500,000 ≤20,000 ≤500
潔凈手術部潔凈用房等級標准
等級 沉降（浮游）細菌最大平均濃度 表面最大染菌密度 空氣潔凈度級別
手術區 周邊區 手術區 周邊區
I 0.2個/30minΦ90皿（5個/ m3） 0.4個/30minΦ90皿（10個/ m3） 5個/cm2 100級 1000級
II 0.75個/30minΦ90皿（25個/ m3） 1.5個/30minΦ90皿（50個/ m3） 5個/cm2 1000級 10000級
III 2個/30minΦ90皿（75個/ m3） 4個/30minΦ90皿（150個/ m3） 5個/cm2 10000級 100000級
IV 5個/30min，Φ90皿（175個/ m3） 5個/cm2 300000級
美國聯邦標准209E
等級名稱 等極限值
0.1μm 0.2μm 0.3μm 0.5μm 5μm
國際單位 英制單位 /m3 /ft3 /m3 /ft3 /m3 /ft3 /m3 /ft3 /m3 /ft3
M1 350 9.91 75.7 2.14 30.9 0.875 10.0 0.283
M1.5 1 1240 35.0 265 7.50 106 3.00 3.53 1.00
M2 3500 99.1 757 21.4 309 8.75 100 2.83
M2.5 10 1240 350 2650 75.0 1060 30.0 353 10.0
M3 35000 991 7570 214 3090 87.5 1000 28.3
M3.5 100 26500 750 10600 300 3530 100
M4 75700 21400 30900 875 10000 283
M4.5 1000 35300 1000 247 7
M5 100000 2830 618 17.5
M5.5 10000 353000 10000 2470 70.0
M6 1000000 28300 6180 175
M6.5 100000 3530000 100000 24700 700
M7 10000000 283000 61800 1750
常用單位換算
1米m = 3.28英尺ft 1CFM（ft3/min） = 0.4719L/s
1平方米m2 = 10.76平方英尺ft2 1CFS(ft3/s) = 28.32L/s
1立方米m3 = 35.3立方英尺ft3 1FPM(ft/min) = 0.00508m/s
1英制加侖gallon = 4.55升L 1BTU/h = 0.2931W
1美製加侖gallon = 3.79升L 1千瓦kw = 860千卡/小時kcal/h
1磅lb = 454克g 1USTR美國冷噸 = 3.516 kw
1馬力HP = 0.746千瓦kw 1巴bar = 100千帕kpa
1攝氏度℃ = 5(華氏度F-32)/9 1mmH2O(毫米水柱) = 9.8067帕Pa

6. 嚴禁在化驗室內存放總量大於多少體積的瓶裝易燃液體

嚴禁在化驗室存放總量大於20L的瓶裝易燃液體。

1、鉛及其化合物：鉛進入人體後，除部分排泄外，其餘容在數小時後溶入血液，阻礙血液的合成，鉛及其化合物具有一定的毒性，對人體的毒害是積累性的。

2、硝酸：硝酸液及硝酸蒸氣對皮膚和粘膜有強刺激和腐蝕作用，濃硝酸加熱時產生硝酸蒸氣，也可分解產生二氧化氮，吸入後可引起急性氮氧化物中毒。

(6)無塵室最多能放多少升化學品擴展閱讀：

實驗室試劑的儲存和使用要求

（1）易燃易爆試劑應存放在鐵櫃（壁厚大於1mm）內，櫃頂有通風口。實驗室嚴禁使用大於20L的易燃液體瓶子。易燃易爆葯品不得放置在冰箱內（防爆型冰箱除外）。

（2）兩種或兩種以上的化合物相互混合或接觸後，能發生劇烈反應、燃燒、爆炸並釋放有毒氣體的，稱為不相容化合物，不能混合。這些化合物大多是強氧化性和還原性物質。

（3）腐蝕性試劑應放置在塑料或搪瓷板或桶內，防止瓶子破裂引起事故。

（4）要注意化學品的貯存期，有些試劑在貯存過程中會逐漸變質，甚至形成危害。

7. 無塵車間的7大禁止事項

為了避免帶入太多灰塵，潔凈室里的用品要求不會自己產生灰塵，並且不容易附著灰塵。像紙箱，普通抹布這些東西，都是嚴格禁止的。
如果是電子工業方面的潔凈室，還要對靜電進行嚴格的控制，所以對與產品接觸的材料、工具、包裝物等，還有防靜電的要求。

湖南純臻凈化工程告訴您萬級無塵室一般禁止及注意事項
(1) 未取得無塵室進入資格者，不得進入無塵室。
(2) 嚴禁裸手接觸產品。
(3) 表單、Run Card、記錄簿等應確實小心填寫，任何塗改必須於旁邊簽名及日期。
(4) 手套應保持乾燥清潔，並且不可在手套上塗寫。
(5) 嚴禁坐卧桌面、腳踏板、地板、垃圾桶、護欄，以及斜靠機台或儲存櫃。
(6) 若手易出汗或過敏者，可先戴細棉手套再帶PVC手套或乳膠手套。
(7) 應隨時注意各項公告及標語。
(8) 應主動相互支持，但不可單獨操作未認證合格之機台。
(9) 大家應隨時取締、糾正不合規定之人員、物品、標示等，並通知相關主管。
(1) 應隨時注意頭發、口、鼻不可外露。
(2) 不可將無塵衣、帽等隨意置於地板上。
(3) 只能在更衣室內穿、脫無塵衣，不可在其它地方為之。
(4) Air Shower前後兩門不可同時開起。
(5) 萬級無塵室內嚴禁奔跑、嬉戲、喧嘩、睡覺等。
(6) 萬級無塵室內嚴禁吃東西或喝飲料。
(7) 無塵室內應避免多人聚集在一起，以免製造particle。微粒
(8) 劇烈運動或流汗後，不可立即進入無塵室，需待呼吸平穩且不再流汗後，方可進入。
(9) 若有抽煙，須於抽後30分鍾並且洗手漱口後，方可進入。
(10) 面板前段不可將一般用紙、筆記本、紙箱、衛生紙、書籍、鉛筆、修正液、橡皮擦等非 無塵用品攜入無塵室。
(11) 嚴禁於無塵室內磨、銼、鋸，砂紙、磨料….等，亦禁止使用。
(12) 萬級無塵室內工作人員，應保持頭發、身體之清潔，並經常盥洗。
(13) 進入無塵室的人員禁止使用香水、口紅、發膠及其它化妝品，若有化妝者應先卸妝後
才可進入。
(14) 原物料進入無塵室，需先在外面拆箱並擦拭乾凈後才可進入無塵室。
(15) 不可面對產品、Cassette或機台之chamber交談。
(16) 即使已戴手套或指套，亦須減少對產品做非必要之碰觸。
(17) 無塵室內文件、半成品、物品或生產工具，非經部門主管允許，不可攜出。
(18) 談話時不可拉下口罩交談。
(19) 在無塵室內使用電話，宜簡短扼要，勿占線。
(20) 無塵室內逃生路線，不可有障礙物阻礙逃生。
(21) 萬級無塵室內產品、化學品、Cassette、工具、文件、記錄簿……等，應放置整齊。
(22) 進入Air Shower前，雙腳應先踏腳踏粘墊，將無塵鞋底之臟污去除。
(23) Air Shower內之正確動作應為雙手舉起，並緩慢旋轉身體(至少三圈)。
(24) 各Air Shower均有規定人數，不可超過所規定人數，若人數過多時應分批進入。
(25) 安全門僅供緊急狀況時使用，平時嚴禁由安全門進出工廠。
無塵衣/鞋不可穿出無塵室外，靜電鞋亦不可穿出工廠外之區域。

8. 什麼標准，第幾條規定生產現場存放化學危險品不能超過一天的用量

GA 654—2006《人員密集場所消防安全管理》

7.10.3人員密集場所需要使用易燃易爆化學物品時，應根據需要限量使用，存儲量不應超過一天的使用量，且應由專人管理、登記。

8.8.2車間內中間倉庫的儲量不應超過一晝夜的使用量。生產過程中的原料、半成品、成品應集中擺放，機電設備、消防設施周圍0.5m的范圍內不得堆放可燃物。

GB50016-2006《建築設計防火規范》

3.3.9 廠房內設置甲、乙類中間倉庫時，其儲量不宜超過一晝夜的需要量。

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防護措施

替代

控制、預防化學品危害最理想的方法是不使用有毒有害和易燃、易爆的化學品，但這很難做到，通常的做法是選用無毒或低毒的化學品替代有毒有害的化學品，選用可燃化學品替代易燃化學品。例如，甲苯替代噴漆和除漆用的苯，用脂肪族烴替代膠水或粘合劑中的芳烴等。

變更工藝

雖然替代是控制化學品危害的首選方案，但是可供選擇的替代品很有限，特別是因技術和經濟方面的原因，不可避免地要生產、使用有害化學品。這時可通過變更工藝消除或降低化學品危害。如以往從乙炔制乙醛，採用汞做催化劑，直到發展為用乙烯為原料，通過氧化或氯化制乙醛，不需用汞做催化劑。通過變更工藝，徹底消除了汞害。

隔離

隔離就是通過封閉、設置屏障等措施，避免作業人員直接暴露於有害環境中。最常用的隔離方法是將生產或使用的設備完全封閉起來，使工人在操作中不接觸化學品。

隔離操作是另一種常用的隔離方法，簡單地說，就是把生產設備與操作室隔離開。最簡單形式就是把生產設備的管線閥門、電控開關放在與生產地點完全隔開的操作室內。

通風

通風是控製作業場所中有害氣體、蒸氣或粉塵最有效的措施。藉助於有效的通風，使作業場所空氣中有害氣體、蒸氣或粉塵的濃度低於安全濃度，保證工人的身體健康，防止火災、爆炸事故的發生。

通風分局部排風和全面通風兩種。局部排風是把污染源罩起來，抽出污染空氣，所需風量小，經濟有效，並便於凈化回收。全面通風亦稱稀釋通風，其原理是向作業場所提供新鮮空氣，抽出污染空氣，降低有害氣體、蒸氣或粉塵，在作業場所中的濃度。全面通風所需風量大，不能凈化回收。

對於點式擴散源，可使用局部排風。使用局部排風時，應使污染源處於通風罩控制范圍內。為了確保通風系統的高效率，通風系統設計的合理性十分重要。對於已安裝的通風系統，要經常加以維護和保養，使其有效地發揮作用。

對於面式擴散源，要使用全面通風。採用全面通風時，在廠房設計階段就要考慮空氣流向等因素。因為全面通風的目的不是消除污染物，而是將污染物分散稀釋，所以全面通風僅適合於低毒性作業場所，不適合於腐蝕性、污染物量大的作業場所。

像實驗室中的通風櫥、焊接室或噴漆室可移動的通風管和導管都是局部排風設備。在冶金廠，熔化的物質從一端流向另一端時散發出有毒的煙和氣，需要兩種通風系統都要使用。

個體防護

當作業場所中有害化學品的濃度超標時，工人就必須使用合適的個體防護用品。個體防護用品既不能降低作業場所中有害化學品的濃度，也不能消除作業場所的有害化學品，而只是一道阻止有害物進入人體的屏障。防護用品本身的失效就意味著保護屏障的消失，因此個體防護不能被視為控制危害的主要手段，而只能作為一種輔助性措施。

防護用品主要有頭部防護器具、呼吸防護器具、眼防護器具、身體防護用品、手足防護用品等。

保持衛生

衛生包括保持作業場所清潔和作業人員的個人衛生兩個方面。經常清洗作業場所，對廢物、溢出物加以適當處置，保持作業場所清潔，也能有效地預防和控制化學品危害。作業人員應養成良好的衛生習慣，防止有害物附著在皮膚上，防止有害物通過皮膚滲入體內。

危險化學品火災、爆炸事故的預防

1、防止燃燒、爆炸系統的形成

（1）替代

（2）密閉

（3）惰性氣體保護.

（4）通風置換.

（5）安全監測及連鎖。

2、消除點火源

能引發事故的火源有明火、高溫表面、沖擊、摩擦、自燃、發熱、電氣、靜電火花、化學反應熱、光線照射等，具體做法有：

（1）控制明火和高溫表面

（2）防止摩擦和撞擊產生火花

（3）火災爆炸危險場所採用防爆電氣設備避免電氣火花。

3、限制火災、爆炸蔓延擴散的措施

限制火災爆炸蔓延擴散的措施包括阻火裝置、阻火設施、防爆泄壓裝置及防火防爆分隔等。

參考資料來源：網路-危險化學品

9. 無塵室里的等級是怎麼區分的

無塵車間可以分為以下幾個級別：1級、百級、千級、萬級、十萬級、30萬級、百萬級。

每立方米將小於0.5微米粒徑的微塵數量控制在3500個以下，就達到了國際無塵標準的A級。目前應用在晶元級生產加工的無塵標准對於灰塵的要求高於A級，這樣的高標主要被應用在一些等級較高晶元生產上。微塵數量被嚴格控制在每立方米1000個以內，這也就是業內俗稱級別中的千級。

(9)無塵室最多能放多少升化學品擴展閱讀

我國第一個國際最高等級「ISO 1級」的無塵室集成系統在南京天加空調設備有限公司落成，並通過專家組評定。來自中國科學院、中國工程院、行業協會、高校，包括多名院士在內的近30名權威專家一致評定，該系統為國內首創，達國際先進水平。

1963年美國制定出國際上第一套無塵室標准，此後不斷修改標准。1999年，ISO統一了各國的潔凈度標准，並頒發標准。「ISO 1級」是該標準的最高要求，實現難度非常大。

無塵室裡面每立方米的空間只有0.1微米的顆粒0.5顆。在無塵室,相當於頭發絲直徑千分之一的顆粒只有10粒。

10. 甲類化學危險品倉庫，750平方米能存儲多少量

約2400桶，384噸。每4個鐵桶擺放在一個托盤上，最多允許兩層托盤擺放，四個桶要進行捆紮綁定，防止移動時意外滑落。托盤按標準是2.25m²， 則750m2倉庫可存放約300個托盤（考慮到垛距、垛牆間距、應急通道等）。

在用地面積足夠的前提下，庫房盡量寬敞，滿足商品擺放要求，貨物堆垛離牆0.3m以上，各類物品堆垛間距0.1m以上，主通道1.8m以上，支通道0.8m以上。單一貯存區最大貯量2000~2400 噸。

超出存儲量，根據《危險化學品安全管理條例》第六十一條中「危險化學品專用倉庫不符合國家標准對安全、消防的要求的；」由負責危險化學品安全監督管理綜合工作的部門或者公安部門依據各自的職權責令立即或者限期改正，處1萬元以上5萬元以下的罰款；逾期不改正的，由原發證機關吊銷危險化學品生產許可證、經營許可證和營業執照。

(10)無塵室最多能放多少升化學品擴展閱讀

危險化學品單位違反本條例的規定，有下列行為之一的，由負責危險化學品安全監督管理綜合工作的部門或者公安部門依據各自的職權責令立即或者限期改正，處1萬元以上5萬元以下的罰款；逾期不改正的，由原發證機關吊銷危險化學品生產許可證、經營許可證和營業執照；觸犯刑律的，對負有責任的主管人員和其他直接責任人員依照刑法關於危險物品肇事罪、重大責任事故罪或者其他罪的規定，依法追究刑事責任：

(一)未對其生產、儲存裝置進行定期安全評價，並報所在地設區的市級人民政府負責危險化學品安全監督管理綜合工作的部門備案，或者對安全評價中發現的存在現實危險的生產、儲存裝置不立即停止使用，予以更換或者修復，並採取相應的安全措施的；

(二)未在生產、儲存和使用危險化學品場所設置通訊、報警裝置，並保持正常適用狀態的；

(三)危險化學品未儲存在專用倉庫內或者未設專人管理的；

(四)危險化學品出入庫未進行核查登記或者入庫後未定期檢查的；

(五)危險化學品專用倉庫不符合國家標准對安全、消防的要求，未設置明顯標志，或者未對專用倉庫的儲存設備和安全設施定期檢測的；

(六)危險化學品經銷商店存放非民用小包裝的危險化學品或者危險化學品民用小包裝的存放量超過國家規定限量的；

(七)劇毒化學品以及構成重大危險源的其他危險化學品未在專用倉庫內單獨存放，或者未實行雙人收發、雙人保管，或者未將儲存劇毒化學品以及構成重大危險源的其他危險化學品的數量、地點以及管理人員的情況，報當地公安部門和負責危險化學品安全監督管理綜合工作的部門備案的；

(八)危險化學品生產單位不如實記錄劇毒化學品的產量、流向、儲存量和用途，或者未採取必要的保安措施防止劇毒化學品被盜、丟失、誤售、誤用，或者發生劇毒化學品被盜、丟失、誤售、誤用後不立即向當地公安部門報告的；

(九)危險化學品經營企業不記錄劇毒化學品購買單位的名稱、地址，購買人員的姓名、身份證號碼及所購劇毒化學品的品名、數量、用途，或者不每天核對劇毒化學品的銷售情況，或者發現被盜、丟失、誤售不立即向當地公安部門報告的。