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光刻機是干什麼用的

發布時間:2022-05-25 05:07:35

⑴ 光刻機是干什麼用的

刻機是用來製造晶元的。光刻機又被稱為掩膜對准曝光機,在晶元生產中用於光刻工藝,而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步,所以光刻機又是晶元生產中不可缺少的設備。

光刻機是干什麼用的

光刻機決定了晶元的精密尺寸,設計師設計好晶元線路,在通過光刻機將線路刻在晶元上,其尺度通常在微米級以上。

光刻機是晶元生產中最昂貴也是技術難度最大的設備,因為其決定了一塊晶元的整體框架與功能。

其實生產高精度晶元並不難,只是生產速度太慢,而光刻機能快速生產高精度的晶元,所以很重要。

⑵ 光刻機是什麼啊有什麼用

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對准曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對准光刻,所以叫 Mask Alignment System.

Photolithography(光刻) 意思是用光來製作一個圖形(工藝);

在矽片表面勻膠,然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時「復制」到矽片上的過程。

(2)光刻機是干什麼用的擴展閱讀:

光刻相關介紹:

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。

在傳統光學光刻技術逼近工藝極限的情況下,電子束光刻技術將有可能出現在與目前193i為代表的光學曝光技術及EUV技術相匹配的混合光刻中,在實現10nm級光刻中起重要的作用。

應該提到的是電子束曝光技術是推動微電子技術和微細加工技術進一步發展的關鍵技術,在微電子、微光學和微機械等微系統微細加工領域有著廣泛的應用前景,而且除電子束直寫光刻技術本身以外,幾乎所有的新一代光刻技術所需要的掩模製作還是離不開電子束曝光技術。

⑶ 光刻機是什麼造一台有多難

光刻機是製造集成電路中非常重要的設備,特別是現在市面上大部分的晶元都是屬於電子晶元,當電子晶元的工藝小於一定的尺寸的時候,就必須依靠光刻機在製作晶元,也就是說如果沒有光刻機就沒有辦法製造出頂級的晶元,比如市面上7nm晶元、5nm晶元等都不可能造出。而晶元在生活中是非常重要的,比如電腦、手機等電子產品都少不了。

ASML光刻機

荷蘭的ASML光刻機基本上都是供不應求,中國也一直想要購買,但是現在還沒有收到貨。ASML的光刻機基本上都是內部消化了,畢竟台積電、三星以及英特爾本來就是晶元大戶,台積電能夠在晶元代工領域有今天的成績,跟手上有這么多的光刻機也有很大的關系。

⑷ 光刻機 是干什麼用的 重要嗎 能國產嗎

在現在的各種各樣的電子產品中,晶元可以說是最重要的零件,而光刻機就是晶元製造的核心設備之一。

按照用途可以分為好幾種,用於生產晶元;用於封裝;用於LED製造領域。

用於生產晶元的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

⑸ 光刻機是用來做什麼的

在光碟表面綉花的機器.有一種光碟,可以把圖案印在盤表面上,就需要用到這種"光雕機".這與存數據的刻錄機是另一回事.

⑹ 光刻機到底是做什麼東西的

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對准曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對准光刻,所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

Photolithography(光刻) 意思是用光來製作一個圖形(工藝);

在矽片表面勻膠,然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時「復制」到矽片上的過程。

⑺ 為什麼光刻機對我國那麼重要

其實光刻機的作用就是製造晶元,就是這樣一個不被人所熟知的設備能夠佔到晶元製造成本的35%以上,雖說這個機器的原理看起來很簡單,但它的功能是十分重要的。當晶元結束了IC設計後就要被送到晶圓代工廠進行製造封裝,比較有名的代工廠就是台積電、中芯國際等,像華為自己的研發晶元也同樣是需要有這樣的代工廠才能完整的製造出來,當前華為已經將14nm晶元的訂單交到了中芯國際的手上了,但中芯國際沒有7nm紫外光刻機,因此就沒辦法去製造晶元,而這也就是如今中國為什麼這么迫切需要荷蘭的7nm紫外光刻機的原因了。



其實形象點說晶元製造就如同蓋房子,需要一層層地進行堆疊,才能把房子做出來,而要想有一個好房子,那麼平穩的地基是必不可少的,而它就是晶圓。而光刻機加工就是要將晶元製作所用的線路和功能都做出來,不過這里要知道的是光刻刻出來的是電路圖和電子元件,並將這些設計線路和功能都存進晶圓中。



而要想擁有這個光刻機技術是非常難的,當前它是屬於全球中最尖端的技術之一,很少有國家能夠擁有,因此高端光刻機的價格也是不菲,在這一領域不得不說荷蘭是一個大霸主,全荷蘭的ASML市場佔有率有著80%,並且ASML是有著7nm技術光刻機的供應商,這在全球是獨一無二的,也就是說這家公司幾乎是壟斷了整個市場,當前的眾多晶元產商都是需要這家公司的生產才能夠製造出完美的晶元。荷蘭之所以能夠擁有一個全世界頂尖水平的光刻機廠商,首先就是因為ASML這家公司的研發投入十分大,2019年的研發成本支出達到了4.8億歐元,他們的員工有四成都是研發類,加上他們的很多技術都是外包,因此讓他們有了更多的時間和機會去研發核心技術。



另外ASML這家公司的鏡片技術十分高,有著上百年的技術積累,並且它還是採用德國、美國提供的多種技術,雖說是一家荷蘭公司,但它背後有著整個歐美頂端科技的支持。如今中國在光刻機這一領域依舊是很大的短板,這對我們研究晶元,半導體都有著很大的影響,因此如果晶元領域被西方國家制裁,那麼中國的科技領域必將受到打擊。不過當前中芯國際經過資源和技術整合,將在下半年開出中國第一條14nm生產線,這對5G技術等行業的發展起著關鍵作用,相信在不久的將來中國會將自己的國產晶元呈現給全世界。

⑻ 光刻機,是什麼。怎樣製作

光刻機是晶元製造的核心設備之一,按照用途可以分為好幾種:有用於生產晶元的光刻機;有用於封裝的光刻機;還有用於LED製造領域的投影光刻機。
用於生產晶元的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口,本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用於晶元生產的設備。
二、工作原理
在加工晶元的過程中,光刻機通過一系列的光能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小後映射到矽片上,然後使用化學方法顯影,得到刻在矽片上的電路圖。
一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的晶元可以繼續塗膠、曝光。越復雜的晶元,線路圖的層數越多,也需要更精密的曝光控制過程。

⑼ 光刻機是干什麼用的

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對准曝光機,曝光系統,光刻系統等,是製造晶元的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。

高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種,解析度通常七納米至幾微米之間,高端光刻機號稱世界上最精密的儀器,世界上已有1.2億美金一台的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花,其製造難度之大,全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國),日本Nikon(intel曾經購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。

(9)光刻機是干什麼用的擴展閱讀

2019年與2020年在半導體領域,尤其是企業之間,光刻機是被炒得最熱的一個話題,再怎麼說晶元,最終都會說到光刻機上面去。

可能出口給我們DUV光刻機生產7nm的晶元,卻將最先進的EUV光刻機出口給別的企業生產5nm晶元,即使不專門生產晶元的谷歌、高通,ASML也賣他們EUV光刻機。

⑽ 光刻機是干什麼用的,工作原理是什麼

一、用途

光刻機是晶元製造的核心設備之一,按照用途可以分為好幾種:有用於生產晶元的光刻機;有用於封裝的光刻機;還有用於LED製造領域的投影光刻機。

用於生產晶元的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口,本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用於晶元生產的設備。

二、工作原理

在加工晶元的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小後映射到矽片上,然後使用化學方法顯影,得到刻在矽片上的電路圖。

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的晶元可以繼續塗膠、曝光。越復雜的晶元,線路圖的層數越多,也需要更精密的曝光控制過程。

(10)光刻機是干什麼用的擴展閱讀

光刻機的結構:

1、測量台、曝光台:是承載矽片的工作台。

2、激光器:也就是光源,光刻機核心設備之一。

3、光束矯正器:矯正光束入射方向,讓激光束盡量平行。

4、能量控制器:控制最終照射到矽片上的能量,曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。

5、光束形狀設置:設置光束為圓型、環型等不同形狀,不同的光束狀態有不同的光學特性。

6、遮光器:在不需要曝光的時候,阻止光束照射到矽片。

7、能量探測器:檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求,並反饋給能量控制器進行調整。

8、掩模版:一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板,貴的要數十萬美元。

9、掩膜台:承載掩模版運動的設備,運動控制精度是nm級的。

10、物鏡:物鏡用來補償光學誤差,並將線路圖等比例縮小。

11、矽片:用硅晶製成的圓片。矽片有多種尺寸,尺寸越大,產率越高。題外話,由於矽片是圓的,所以需要在矽片上剪一個缺口來確認矽片的坐標系,根據缺口的形狀不同分為兩種,分別叫flat、 notch。

12、內部封閉框架、減振器:將工作台與外部環境隔離,保持水平,減少外界振動干擾,並維持穩定的溫度、壓力。

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