光刻機物理極限多少

『壹』 國產光刻機精度低，若把CPU尺寸做大些，可以獲得同樣的性能嗎

主要是用於手機，筆記本之類的設備了，機床，機械之類的根本用不著精度這么高的晶元！

其實是可行的，同樣尺寸的CPU，7nm比14nm可能高30%左右的硬體性能，但如果用不同的開發框架和開發語言，同樣的CPU性能可以相差5-10倍。所以如果硬體性能吃虧，就要在軟體實現上花功夫。比如蘋果的iOS＋C語言，開發的應用比安卓＋Java快5-10倍，所以蘋果雙核CPU手機比安卓8核手機流暢和穩定。 現在華為的鴻蒙，也是編譯成本地代碼的，所以性能顯著高於安卓，這可以彌補CPU的差距，但缺點生態和技術人員需要時間培養。

對比一下電腦，其實現在的家庭電腦硬體配置是過剩的，為了應對更新換代，軟體也升級，但個人實際使用感卻並不好，就如Xp升級為win10，硬體升級了那麼多，個人使用感還不如老機器，這就是軟體系統問題，加多了很多不大用的功能，導致系統過於龐大。手機目前面對的情況是一樣的，大部分人手機硬體是過剩的，就算我們新手機的硬體配置降低，只要軟體能夠更加優化，完全足夠使用。

剛好相反，我們會加大開放。這不是誰家市場香不香的問題，今天的被動很多是美國的技術和標准制高點造成的。中國製造2025為啥重要，為啥讓美帝忌憚，就是制高點問題。

『貳』 請問一下，其他廠商的晶元都做到了7nm，為何英特爾還停留在14nm

7nm是手機晶元，要求體積小，14nm集成化程度不夠。
而英特爾主產是電腦晶元，體積不用那麼小，14nm基本夠用了，集成化程度也很高，用7nm會增加成本，未來可能會用。

『叄』 我國的光刻機5納米生產技術要多久才能突破

月初一條「中科院5nm激光光刻技術突破」的新聞火了，在很多無良自媒體的口中這則新聞完全變了味，給人的感覺像是中國不久將會擁有自己的5nm光刻機，其實真實情況完全不是一回事。下面我們就來談談這則新聞真實的內容到底是什麼，以及中國光刻機5nm生產技術還要多久才能取得突破。

中國和荷蘭ASML的差距最起碼也在十年以上現在國內最好的光刻機生產企業應該是上海微電子，目前生產的最好光刻機也只是90nm的製程。盡管有傳言說上海微電子明年將會推出28nm的全新光刻機，但是和ASML的EUV光刻機精度依舊相差甚遠。中國想要生產5nm的光刻機有一個最大的難點，就是自主研發。這不光意味著我們需要跨越從28nm到5nm這個巨大的障礙，並且在突破的過程中最好不要使用其他國家的專利，只能發展出一條屬於自己的光刻機道路。需要達成這么多的條件，研發的難度可想而知。總的來說短時間內我國的光刻機技術取得重大突破的概率為0，還是要被人牽著鼻子走。落後就要被挨打卡脖子在任何時候都是真理，只希望我們國家的科研人員能夠迎頭趕上，盡快取得突破吧。

『肆』 光刻機是晶元製造的關鍵，現在在中國有哪些企業能夠研製光刻機

光刻機是晶元製造的關鍵設備，我國投入研發的公司有微電子裝備(集團)股份，長春光機所，中國科學院等都在研發，合肥芯碩半導體有限公司，先騰光電科技有限公司，先騰光電科技有限公司， 合肥芯碩半導體有限公司都有研發以及製造。而且有了一定的科研成果，但是目前我國高端晶元的製造卻主要依賴荷蘭進口的光刻機。我國光刻機在不斷發展但是與國際三巨頭尼康佳能（中高端光刻機市場已基本沒落）ASML（中高端市場近乎壟斷）比差距很大。

合肥芯碩半導體有限公司成立與2006年4月,是國內首家半導體直寫光刻設備製造商。該公司自主研發的ATD4000,已經實現最高200nm的量產。

無錫影速成立與2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首台雙檯面高速激光直接成像連線設備(LDI),已經實現最高200nm的量產。無錫影速成立與2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首台雙檯面高速激光直接成像連線設備(LDI),已經實現最高200nm的量產。

先騰光電成立於2013年4月,已經實現最高200nm的量產,在2014國際半導體設備及材料展覽會上,先騰光電亮出了完全自主知識產權的LED光刻機生產技術,震驚四座。

『伍』 光刻機和原子彈，哪個更難搞

當年造原子彈確實很難，更難的是造原子彈的環境。有了材料設備人才，如今想造原子彈相對就容易一些，畢竟伊朗跟朝鮮都已經做出來了。

其實，不僅我國，美國、德國等大國也製造不出高精度光刻機，因為全球能製造出高精度光刻機的國家也就日本和荷蘭。要知道，目前全球掌握原子彈製造技術的國家都有九個了，而掌握高精度光刻機製造技術的卻只有兩個，這也難怪有人說光刻機比原子彈更難造。美國一位技術工程師曾說，在製造一台光刻機時，一個零件就需要十年時間來調整，這句話也能體現高精度光刻機的製造難度。

『陸』 中國光刻機明年可以達到世界較為先進的水平，開始邁入晶元強國嗎

很多人將關注的焦點放在了手機和PC的晶元，忽略了大多數的晶元其實不需要很先進的製程，不是製程先進不好而是成本更加的重要，比如很多IoT晶元，14nm對於多數行業已經夠了。高端光刻機所實現更小nm級別的製程，主要應用在對續航和晶元體積有要求的終端上，如手機和平板電腦。晶元的本質晶元的本質就是將大規模的集成電路小型化，並且封裝在方寸之間的空間內。英特爾10nm一個單位占面積54*44nm，每平方毫米1.008億個晶體管。（1nm是一根頭發絲直徑的10萬分之一）

綜上所述，未來的競爭說到底還是人才的競爭，是數學、物理、化學等基礎科學的競爭。顯而易見，中國光刻機明年不可能達到世界先進的水平，但誰能說得清楚下一個5年、10年就發生了呢？以上個人淺見，歡迎批評指正。喜歡的可以關注我，謝謝！認同我的看法的請點個贊再走，再次感謝！