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物理學中的AU代表什麼

發布時間:2022-09-11 10:25:23

Ⅰ 「AU」是什麼意思

AU是一種化學元素,常見存在形式為黃金,貴金屬材料。

Ⅱ AU的單位名稱物理

指的是地球到太陽的距離,約1.5億公里,而AU是英文名字的縮寫,正確的就是149,597,871公里,現在一般都是以1.5億公里為計算樣,

Ⅲ Cu Ag Au是什麼意思



一、元器件概述

1、元器件的定義與分類

歐洲空間局ESA標准中的定義:完成某一電子、電氣和機電功能,並由一個或幾個部分構成而且一般不能被分解或不會破壞的某個裝置。

GJB4027-2000《軍用電子元器件破壞性物理分析方法》中的定義:在電子線路或電子設備中執行電氣、電子、電磁、機電或光電功能的基本單元,該基本單元可由一個或多個零件組成,通常不破壞是不能將其分解的。

元件:在工廠生產加工時不改變分子成分的成品,本身不產生電子,對電壓、電流無控制和變換作用。

器件:在工廠生產加工時改變了分子結構的成品,本身能產生電子,對電壓電流的控制、變換(放大、開關、整流、檢波、振盪和調制等),也稱電子器件。

分類(來源:2007年版的《軍用電子元器件合格產品目錄》)

最可靠的元件之一

失效模式:開路、機械損傷、接點損壞、短路、絕緣擊穿、焊接點老化造成的電阻值漂移量超過容差

失效模式:接觸不良、滑動雜訊大、開路等

失效模式:漏電或短路,擊穿特性劣變,正向壓降劣變,開路可高阻

失效機理:電遷移,熱載流子效應,與時間相關的介質擊穿(TDDB),表面氧化層缺陷,絕緣層缺陷,外延層缺陷

MEMS器件的主要失效機理:

指藉助電子在真空或者氣體中與電磁場發生相互作用,將一種形式電磁能量轉換為另一種形式電磁能量的器件。具有真空密封管殼和若干電極,管內抽成真空,殘余氣體壓力為10-4~10-8帕。有些在抽出管內氣體後,再充入所需成分和壓強的氣體。廣泛用於廣播、通信、電視、雷達、導航、自動控制、電子對抗、計算機終端顯示、醫學診斷治療等領域。

真空電子器件按其功能分為:

自20世紀60年代以後,很多真空電子器件已逐步為固態電子器件所取代,但在高頻率、大功率領域,真空電子器件仍然具有相當生命力,而電子束管和光電管仍將廣泛應用並有所發展。[1] 真空電子器件裡面就包含真空斷路器,真空斷路器具有很多優點,所以在變電站上應用很多。真空斷路器已被快易優收錄,由於採用了特殊的真空元件,隨著近年來製造水平的提高,滅弧室部分的故障明顯降低。真空滅弧室無需檢修處理,當其損壞時,只能採取更換。真空斷路器運行中發生的故障以操作機構部分所佔比重較大,其次為一次導電部分,觸頭導電桿等。

第二章 元器件製造工藝與缺陷

1、晶元加工中的缺陷與成品率預測

晶元製造缺陷的分類:

來源:灰塵微粒、矽片與設備的接觸、化學試劑中的雜質顆粒。

2、混合集成電路的失效

混合集成電路工藝:

失效原因:

元器件失效:31%

互連失效:23%,引線鍵合失效、晶元粘結不良等

沾污失效:21%

關於混合集成電路:

按製作工藝,可將集成電路分為:

(1)半導體集成電路(基片:半導體)

即:單片集成電路(固體電路)

工藝:半導體工藝(擴散、氧化、外延等)

(2)膜集成電路(基片:玻璃、陶瓷等絕緣體)

工藝:

薄膜集成電路——真空蒸鍍、濺射、化學氣相沉積技術

厚膜集成電路——漿料噴塗在基片上、經燒結而成(絲網印刷技術)

3、混合集成電路(Hybrid Integrated Circuit)

特點:充分利用半導體集成電路和膜集成電路各自的優點,達到優勢互補的目的;

工藝:用膜工藝製作無源元件,用半導體IC或晶體管製作有源器件。

三種集成電路的比較:

第三章 微電子封裝技術與失效

1、微電子封裝的分級:

零級封裝:通過互連技術將晶元焊區與各級封裝的焊區連接起來;

一級封裝(器件級封裝):將一個或多個IC晶元用適宜的材料封裝起來,並使晶元的焊區與封裝的外引腳用引線鍵合(WB)、載帶自動焊(TAB)和倒裝焊(FC)連接起來,使之成為有功能的器件或組件,包括單晶元組件SCM和多晶元組件MCM兩大類

二級封裝(板極封裝):將一級微電子封裝產品和無源元件一同安裝到印製板或其他基板上,成為部件或整機。

三級封裝(系統級封裝):將二極封裝產品通過選層、互連插座或柔性電路板與母板連接起來,形成三維立體封裝,構成完整的整機系統(立體組裝技術)

2、微電子的失效機理

(1)熱/機械失效

熱疲勞失效主要是由於電源的閉合和斷開引起熱應力循環,造成互連焊點變形,最終產生裂紋

失效分析例子——連接器的過機械應力疲勞損傷

樣品:SMA連接器(陰極)

現象:外部插頭(陽極)與該SMA接頭連接不緊,裝機前插拔力檢驗合格

失效模式:接觸不良

半圓弧夾片明顯偏離

插孔周邊絕緣介質有較深的插痕

偏離的半圓夾片根部有裂紋

半圓片裂紋斷面

蠕變----材料在長時間恆溫、恆壓下,即使應力沒有達到屈服強度,也會慢慢產生塑性變形的現象

蠕變導致焊點斷裂

當應力超過某一值時,陶瓷、玻璃和硅等脆性材料易發生脆性斷裂。斷裂一般發生在有初始裂紋和刻痕的地方,當原有裂紋擴展到器件的有源區時,器件將失效。

當應力超過材料的彈性限度或屈服點時,將發生塑性變形(永久):

金屬:電阻升高或開裂

陶瓷等脆性材料:開裂

MEMS系統:影響精度甚至不能正常工作

封裝界面層分層----粘連在一起的不同層之間出現剝離或分離的現象

原因:表面缺陷

表面存在水汽和揮發物

材料不均或表面粗糙等

塑封件因熱膨脹系數不同,溫度變化大時會出現;

塑封件因吸收過多潮氣,在受熱例如焊接過程中出現分層(爆米花現象);

BGA封裝中,模塑料與基體界的界面及粘膠處易發生水汽爆裂。

引子:銅互連替代鋁互連,雖然銅的電阻率較低,抗電遷移和應力遷移能力強,但應力遷移誘生空洞,導致電阻增大甚至完全斷裂

出現條件:應力梯度—絕緣介質與銅之間的熱失配所致

位置:通孔和金屬連線邊緣等應力集中區域

影響因素:應力、應力梯度、互連結構、工作溫度、金屬介質界面粘附性、互連材料的微觀結構

銅導線上的應力遷移空洞

(2)電致失效

強電流經過金屬線時,金屬離子等會在電流及其他因素相互作用下移動並在線內形成孔隙或裂紋的現象

原因:電場作用下金屬離子擴散所致,不同材料機制不同:

焊點:晶格擴散

鋁互連線:晶界擴散

銅互連線:表面擴散

驅動力:電子與離子動量交換和外電場產生的綜合力、非平衡態離子濃度產生的擴散力、機械應力、熱應力

影響因素:

幾何因素:長度、線寬、轉角、台階、接觸孔等

材料性質:銅最好、鋁較差、鋁銅合金介於其中

(3)金屬遷移

失效模式:金屬互連線電阻值增大或開路

失效機理:電子風效應

產生條件:電流密度大於10E5A/cm2

高溫

糾正措施:高溫淀積,增加鋁顆粒直徑,摻銅,降低工作溫度,減少階梯,銅互連、平面化工藝

互連線和焊點的電遷移

(4)閂鎖效應(Latch-up)----寄生PNPN效應

由於MOS管存在寄生晶體管效應(CMOS管下面會構成多個晶體管,它們自身可能構成一個電路),若電路偶然出現使該寄生晶體管開通的條件,則寄生電路會極大影響正常電路的動作,使原MOS電路承受大於正常狀態很大的電流,可使電路迅速燒毀。

閂鎖狀態下器件在電源與地之間形成短路,造成大電流、過電應力和器件損壞

通信介面集成電路的閂鎖失效

(5)熱載流子效應(Hot Carrier Injection

柵極電壓Vg小於漏極電壓Vd時,柵極絕緣膜下的溝道被夾斷,漏極附近電場增高;

源極流經此區的電子成為熱電子,碰撞增多---漏極雪崩熱載流子;

注入柵極二氧化硅膜中,使其產生陷阱和界面能級,閾值電壓增加,氧化層電荷增加或波動不穩,器件性能退化

(6)與時間相關的介質擊穿(Time Dependent Dielectric Breakdron)

擊穿模型:I/E(空穴擊穿),E(熱化學擊穿)

I/E模型:電子穿越氧化膜產生電子陷阱和空穴陷阱+電子空穴對空穴隧穿回氧化層,形成電流空穴易被陷阱俘獲在氧化層中產生電場缺陷處局部電流不斷增加,形成正反饋陷阱互相重疊並連成一個導電通道時,氧化層被擊穿。

E模型:熱動力學過程,處於熱應力和外加電場下的偶極子相互作用破壞了Si-O鍵而產生擊穿。

3、電化學失效

金屬遷移----從鍵合焊盤處開始的金屬枝晶生長,是一金屬離子從陽極區向陰極區遷移的電解過程。

現象:橋連區的泄漏電流增加,甚至短路

遷移離子:Ag,Pb,Sn,Au,Cu

預防銀遷移的方法:

使用銀合金;

在布線布局設計時,避免細間距相鄰導體間的電流電位差過高;

設置表面保護層;

清洗助焊劑殘留物

腐蝕

出現條件:封裝內存在潮氣和離子沾污物

本質:電化學反應

混合集成電路的電化學腐蝕

金屬間化合物

優點:提高結合力

缺點:過量的金屬間化合物會使局部脆化

Ⅳ 相對熒光強度的計算,熒光強度單位au的全稱是什麼有人說是一

很多文獻上紫外吸收光譜和熒光光譜譜圖的縱坐標都寫a.u.,但實際上兩者單位是不同的,紫外光一般用吸光度(Absorbance Unit,簡寫A.U.)。

熒光一般是用熒光發射的強度,但不同的儀器表示方法不一樣,有的用光能量、有的用光子計數,不同的儀器測的值之間沒有可比性,因此一般不標絕對值,而以相對值表示,單位就成了任意單位(Arbitrary Unit,也簡寫A.U.)

(4)物理學中的AU代表什麼擴展閱讀:

光密度和吸光度的區別:

雖然光密度和吸光度都可以測量光通過光學元件時的吸收情況, 但這兩個術語是不一樣的。光密度測量光通過光學元件時的光衰減或光強度損失。

光密度著重於探測光散射後的衰減程度, 而吸光度只考慮光學元件或介質內的光吸收率。通過使用光譜儀可以探測光密度和吸光度(吸光率)。

吸光系數與入射光的波長以及被光通過的物質有關,只要光的波長被固定下來,同一種物質,吸光系數就不變。

當一束光通過一個吸光物質(通常為溶液)時,溶質吸收了光能,光的強度減弱。吸光度就是用來衡量光被吸收程度的一個物理量。

Ⅳ 物理中AU的含義,及大小

AU指天文單位,是太陽到地球的平均距離1AU=1.5×10^11m

Ⅵ 距離單位中的「AU」是什麼意思

天文單位(英文:Astronomical Unit,簡寫AU)是一個長度的單位,約等於地球跟太陽的平均距離。但實際上地球繞日的軌道不是一個圓形,而是一個橢圓形:最初天文單位的定義就是上述橢圓的半長軸的長度。 1976年,國際天文學聯會把一天文單位定義為一顆質量可忽略、公轉軌道不受干擾而且公轉周期為365.2568983日(即一高斯年)的粒子與一個質量相等約一個太陽的物體的距離。當前被接受的天文單位是149,597,870,691±30米(約一億五千萬公里或9300萬英里))。

Ⅶ Au是什麼元素

金(Aurum)是一種金屬元素,元素符號是Au,原子序數是79。

金的單質(游離態形式)通稱黃金,是一種貴金屬,很多世紀以來一直被用作貨幣、保值物及珠寶。在自然界中,金以單質的形式出現於岩石中的金塊或金粒、地下礦脈及沖積層中。

金亦是貨幣金屬之一。金在室溫下為固體,密度高、柔軟、光亮、抗腐蝕,是展性最好的金屬,延性僅次於鉑,是延展性最好的金屬之一。

金是一種過渡金屬,被溶解後可以形成三價及一價正離子。金與大部分物質都不會發生化學反應,但可以被氯、氟、王水及氰化物腐蝕。

金能被汞溶解,形成金汞齊(這並非化學反應);能夠溶解銀的硝酸不能溶解金。以上兩個性質成為黃金精煉技術的基礎,分別稱為「加銀分金法」(inquartation)及「金銀分離法」(parting)。

特性

金是延性及展性最高的金屬。一克金可以打成一平方米薄片或拉長成4000米的細絲,或者說一盎司金可以打成300平方英尺。金葉甚至可以被打薄至半透明,透過金葉的光會顯露出綠藍色,因為金反射黃色光及紅色光能力很強。

因延展性非常好,黃金可以打成金箔和拉成金絲。金箔用於塑像、建築、工藝品的貼金,常見於寺廟、教堂內的裝飾貼金。金箔也可入中葯。

金可以很容易便與其他金屬形成合金。那些製成的合金可以增加硬度或製造奇特的顏色(見下)。金是熱和電的良導體,亦不受地球大氣層及大部分反應物影響。

熱、濕氣、氧及大部分侵蝕劑只對金有少量化學影響,令金適合作為硬幣及珠寶;相反地,鹵素可以與金起化學反應,而王水則可以通過形成氯金酸根離子(AuCl4−)溶解金。

以上內容參考網路-金

Ⅷ AU是什麼意思啊

AU = Alternative Universe(平行世界)

AU(又被稱為alternate reality),是指部分或全部地更改了原著背景和人物設定的同人小說。例如《火影忍者》同人《第八隊(Team 8)》,描述鳴人被分到第八隊而不是第七隊以後發生的故事。

(8)物理學中的AU代表什麼擴展閱讀:

AU的類別有:

1、Alternative Timeline(平行時間軸),即在某個時間點之前遵循原著,但在那個時間點上對原著情節走向作出改變的同人小說。

2、Contextual Reassignment(背景重設定),也就是中文同人所說的「架空」。例如哈利波特同人《Draco's Boy》,講的就是哈利和馬爾福在沒有魔法的正常世界裡的成長經歷。可見AU不等同於架空,架空是AU的一個分類。

3、Swapping the characters with the actors who play them,交換角色和角色的扮演者。

4、Crossovers(交叉同人),即兩部不同作品的混合同人。

5、Predictive fiction(預測同人),即在原著未完結之前,預測原著結局的同人作品。例如哈利波特同人《秘密(Secrets)》,銜接原著第六部《混血王子》,預測在鄧布利多死後,哈利將如何打敗伏地魔。

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