光刻机物理极限多少

‘壹’ 国产光刻机精度低，若把CPU尺寸做大些，可以获得同样的性能吗

主要是用于手机，笔记本之类的设备了，机床，机械之类的根本用不着精度这么高的芯片！

其实是可行的，同样尺寸的CPU，7nm比14nm可能高30%左右的硬件性能，但如果用不同的开发框架和开发语言，同样的CPU性能可以相差5-10倍。所以如果硬件性能吃亏，就要在软件实现上花功夫。比如苹果的iOS＋C语言，开发的应用比安卓＋Java快5-10倍，所以苹果双核CPU手机比安卓8核手机流畅和稳定。 现在华为的鸿蒙，也是编译成本地代码的，所以性能显着高于安卓，这可以弥补CPU的差距，但缺点生态和技术人员需要时间培养。

对比一下电脑，其实现在的家庭电脑硬件配置是过剩的，为了应对更新换代，软件也升级，但个人实际使用感却并不好，就如Xp升级为win10，硬件升级了那么多，个人使用感还不如老机器，这就是软件系统问题，加多了很多不大用的功能，导致系统过于庞大。手机目前面对的情况是一样的，大部分人手机硬件是过剩的，就算我们新手机的硬件配置降低，只要软件能够更加优化，完全足够使用。

刚好相反，我们会加大开放。这不是谁家市场香不香的问题，今天的被动很多是美国的技术和标准制高点造成的。中国制造2025为啥重要，为啥让美帝忌惮，就是制高点问题。

‘贰’ 请问一下，其他厂商的芯片都做到了7nm，为何英特尔还停留在14nm

7nm是手机芯片，要求体积小，14nm集成化程度不够。
而英特尔主产是电脑芯片，体积不用那么小，14nm基本够用了，集成化程度也很高，用7nm会增加成本，未来可能会用。

‘叁’ 我国的光刻机5纳米生产技术要多久才能突破

月初一条“中科院5nm激光光刻技术突破”的新闻火了，在很多无良自媒体的口中这则新闻完全变了味，给人的感觉像是中国不久将会拥有自己的5nm光刻机，其实真实情况完全不是一回事。下面我们就来谈谈这则新闻真实的内容到底是什么，以及中国光刻机5nm生产技术还要多久才能取得突破。

中国和荷兰ASML的差距最起码也在十年以上现在国内最好的光刻机生产企业应该是上海微电子，目前生产的最好光刻机也只是90nm的制程。尽管有传言说上海微电子明年将会推出28nm的全新光刻机，但是和ASML的EUV光刻机精度依旧相差甚远。中国想要生产5nm的光刻机有一个最大的难点，就是自主研发。这不光意味着我们需要跨越从28nm到5nm这个巨大的障碍，并且在突破的过程中最好不要使用其他国家的专利，只能发展出一条属于自己的光刻机道路。需要达成这么多的条件，研发的难度可想而知。总的来说短时间内我国的光刻机技术取得重大突破的概率为0，还是要被人牵着鼻子走。落后就要被挨打卡脖子在任何时候都是真理，只希望我们国家的科研人员能够迎头赶上，尽快取得突破吧。

‘肆’ 光刻机是芯片制造的关键，现在在中国有哪些企业能够研制光刻机

光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备(集团)股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。而且有了一定的科研成果，但是目前我国高端芯片的制造却主要依赖荷兰进口的光刻机。我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能（中高端光刻机市场已基本没落）ASML（中高端市场近乎垄断）比差距很大。

合肥芯硕半导体有限公司成立与2006年4月,是国内首家半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的ATD4000,已经实现最高200nm的量产。

无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。

先腾光电成立于2013年4月,已经实现最高200nm的量产,在2014国际半导体设备及材料展览会上,先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术,震惊四座。

‘伍’ 光刻机和原子弹，哪个更难搞

当年造原子弹确实很难，更难的是造原子弹的环境。有了材料设备人才，如今想造原子弹相对就容易一些，毕竟伊朗跟朝鲜都已经做出来了。

其实，不仅我国，美国、德国等大国也制造不出高精度光刻机，因为全球能制造出高精度光刻机的国家也就日本和荷兰。要知道，目前全球掌握原子弹制造技术的国家都有九个了，而掌握高精度光刻机制造技术的却只有两个，这也难怪有人说光刻机比原子弹更难造。美国一位技术工程师曾说，在制造一台光刻机时，一个零件就需要十年时间来调整，这句话也能体现高精度光刻机的制造难度。

‘陆’ 中国光刻机明年可以达到世界较为先进的水平，开始迈入芯片强国吗

很多人将关注的焦点放在了手机和PC的芯片，忽略了大多数的芯片其实不需要很先进的制程，不是制程先进不好而是成本更加的重要，比如很多IoT芯片，14nm对于多数行业已经够了。高端光刻机所实现更小nm级别的制程，主要应用在对续航和芯片体积有要求的终端上，如手机和平板电脑。芯片的本质芯片的本质就是将大规模的集成电路小型化，并且封装在方寸之间的空间内。英特尔10nm一个单位占面积54*44nm，每平方毫米1.008亿个晶体管。（1nm是一根头发丝直径的10万分之一）

综上所述，未来的竞争说到底还是人才的竞争，是数学、物理、化学等基础科学的竞争。显而易见，中国光刻机明年不可能达到世界先进的水平，但谁能说得清楚下一个5年、10年就发生了呢？以上个人浅见，欢迎批评指正。喜欢的可以关注我，谢谢！认同我的看法的请点个赞再走，再次感谢！